薄膜技術與薄膜材料(2020年化學工業出版社出版的圖書)

《薄膜技術與薄膜材料》是化學工業出版社出版的圖書，作者是石玉龍、閆鳳英。

基本介紹

• 中文名：薄膜技術與薄膜材料
• 作者：石玉龍、閆鳳英
• 出版社：化學工業出版社
• 出版時間：2020年3月1日
• 頁數：242 頁
• 開本：32 開
• 裝幀：平裝
• ISBN：9787122226181
• 語種：漢文

本書是作者根據多年從事材料表面薄膜製備技術的科研和教學經驗編寫而成，全書共分4章，分別闡述了材料表面防護裝飾膜層的物理氣相沉積技術（包括真空蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍鍍膜），化學氣相沉積技術（包括簡單的CVD相關理論、設備裝置、CVD種類等），硬膜及超硬膜的製備技術（金剛石膜、類金剛石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及複合薄膜等），以及利用化學、電化學反應在材料表面製備膜層的技術（包括化學鍍、化學氧化、鈍化、磷化，電鍍、陽極氧化、微弧氧化等內容）。

目錄

1物理氣相沉積1

11物理氣相沉積1

12真空蒸發鍍膜2

121真空蒸發的基本過程2

122蒸發熱力學3

123蒸發速率4

124蒸發分子的平均自由程與碰撞機率5

1241蒸發分子平均自由程5

1242碰撞機率6

125蒸發源的蒸發特性及膜厚分布7

1251點蒸發源8

1252小平面蒸發源8

126蒸發源的類型9

1261電阻加熱蒸發源10

1262電子束加熱蒸發源11

1263高頻感應加熱蒸發源13

1264電弧加熱蒸發源13

1265雷射加熱蒸發源14

127合金及化合物蒸發15

1271合金的蒸發15

1272合金薄膜的製備方法16

1273化合物蒸發法16

13濺射鍍膜17

131輝光放電17

1311直流輝光放電的過程與特性18

1312帕邢定律19

1313直流輝光放電的現象與其特性20

1314高頻輝光放電的特性21

132濺射原理22

1321濺射現象22

1322濺射機理23

1323濺射率23

1324濺射原子的能量和速度28

133濺射鍍膜技術30

1331二極濺射30

1332三極或四極濺射32

1333射頻（RF）濺射32

1334磁控濺射34

1335反應濺射35

14離子鍍膜38

141離子鍍原理39

142離子鍍膜條件40

143離子鍍的特點42

144離化率與離子能量43

145離子的轟擊作用45

146離子鍍類型46

1461直流二極離子鍍46

1462三極和多極型離子鍍47

1463射頻離子鍍48

1464空心陰極離子鍍49

1465活性反應離子鍍52

2化學氣相沉積54

21化學氣相沉積的特點和分類54

211化學氣相沉積的特點54

212化學氣相沉積技術的分類55

22CVD反應類型55

23CVD過程的熱力學57

231化學反應的自由能變化57

232CVD中的化學平衡的計算59

24CVD中的氣體輸運60

241流動氣體邊界層及影響因素60

242擴散和對流62

25CVD中薄膜生長動力學63

251薄膜生長的均勻性63

252溫度與沉積速率65

26CVD裝置68

27低壓化學氣相沉積69

28等離子化學氣相沉積70

281電漿的性質70

282PCVD的特點71

283常用的PCVD裝置73

2831直流等離子化學氣相沉積73

2832脈衝等離子化學氣相沉積75

2833射頻等離子化學氣相沉積78

2834微波等離子化學氣相沉積81

29金屬有機物化學氣相沉積84

210雷射化學氣相沉積87

211分子束外延89

3硬膜材料92

31金剛石薄膜92

311金剛石的結構和特點93

312金剛石的性質及套用95

3121金剛石的力學性能95

3122金剛石電學性能95

3123金剛石的熱學性能96

3124金剛石膜的光學性能97

3125金剛石膜的其他性能98

313金剛石膜的表征98

314低壓合成金剛石的機理100

3141金剛石膜生長的基本原理100

3142低壓氣相生長金剛石的驅動力101

3143金剛石膜生成的基本條件103

315低壓沉積金剛石的方法與裝置103

3151概述103

3152熱絲化學氣相沉積104

3153微波電漿化學氣相沉積金剛石膜107

3154等離子射流法111

316金剛石塗層刀具114

3161金剛石塗層刀具的特點114

3162金剛石塗層刀具的技術性能116

32類金剛石薄膜118

321類金剛石的相結構與表征119

3211類金剛石的相結構119

3212類金剛石膜的表征120

322類金剛石膜的性能121

3221DLC膜的力學性能122

3222DLC膜的電學性能123

3223DLC膜的光學性能124

3224DLC膜的其他性能126

323DLC膜的套用126

3231DLC膜在機械領域的套用127

3232DLC膜在聲學領域的套用128

3233DLC膜在電磁學領域的套用129

3234DLC膜在光學領域的套用129

3235DLC膜在醫學領域的套用130

324DLC膜的製備方法131

33立方氮化硼薄膜131

331氮化硼的結構和性質132

3311六角氮化硼的結構和性質133

3312菱形氮化硼的結構和性質134

3313纖鋅礦氮化硼的結構和性質134

3314立方氮化硼的結構和性質135

332氮化硼的相圖135

333立方氮化硼的表征136

3331傅立葉變換紅外譜（FTIR）分析136

3332X射線光電子譜（XPS）分析137

3333氮化硼膜中化學配比的確定137

3334薄膜的形貌觀測138

334立方氮化硼的性質和套用138

335立方氮化硼的製備方法141

3351物理氣相沉積法141

3352化學氣相沉積法143

3353物理法與化學法製備cBN膜的比較144

34CNx膜144

341βC3N4的晶體結構146

342CNx膜的性能148

3421硬度148

3422耐磨損性能149

3423電學性能150

3424光學性質150

343CNx膜的結構分析與表征151

3431CNx晶體結構的分析151

3432CNx薄膜的成分分析151

3433CNx薄膜的FTIR分析152

3434CNx薄膜的Raman光譜測試152

344CNx的製備方法153

345CNx薄膜的套用155

3451氮化碳塗層刀具乾切削矽鋁合金155

3452氮化碳塗層刀具乾切削淬火鋼156

35氮化物、碳化物、氧化物薄膜及複合薄膜157

351概述157

352氮化物薄膜161

3521TiN薄膜161

3522其他氮化物薄膜164

353碳化物薄膜165

3531TiC薄膜165

3532其他碳化物薄膜169

354氧化物薄膜170

3541氧化鋁鍍層170

3542氧化鋯薄膜171

355複合膜172

3551TiCxNy薄膜173

3552納米超硬複合膜176

4薄膜在液相中的化學及電化學製備182

41薄膜在液相中的化學轉化製備182

411化學鍍182

4111化學鍍鎳183

4112化學鍍銅187

412化學氧化188

4121鋼鐵的化學氧化188

4122有色金屬化學氧化192

413鈍化193

4131鈍化膜的形成過程193

4132鈍化膜的組成和結構193

4133鈍化工藝194

4134影響鈍化膜質量的因素195

414磷化195

4141鋼鐵磷化處理196

4142有色金屬的磷化199

42薄膜在液相中的電化學轉化製備199

421電鍍200

4211基礎知識200

4212電鍍金屬204

4213電鍍合金205

4214電刷鍍209

4215非金屬材料電鍍212

422陽極氧化214

4221鋁陽極氧化膜215

4222鋁陽極氧化機理216

4223鋁陽極氧化工藝217

4224鋁陽極氧化膜的著色和封閉219

4225陽極氧化法製備氧化鋁模板223

4226其他有色金屬陽極氧化223

423微弧氧化225

4231鋁及鋁合金的微弧氧化227

4232鈦及鈦合金的微弧氧化230

4233微弧氧化技術的套用現狀及前景231

參考文獻233