電漿源離子注入(電漿浸沒式離子注入)

電漿源離子注入

電漿浸沒式離子注入一般指本詞條

電漿源離子注入,亦稱“電漿浸沒式離子注入”。一種以電漿作為離子源的離子注入方法。通過射頻放電、熱陰極放電或金屬陰極真空弧放電產生所需的各種氣體或固態離子的大面積均勻電漿,使處於電漿鞘包圍中的材料或零部件實現全方位離子注入。與傳統束線注入不同,樣品被“浸泡”在電漿中,由於沒有過濾器,其注入劑量是常規離子注入機束流的十倍到一百倍。對離子注入沒有方向性限制,適用於對複雜形狀表面,甚至是深度較大的溝槽,深孔內表面的離子注入。

基本介紹

  • 中文名:電漿源離子注入
  • 別名:電漿浸沒式離子注入
  • 釋義:一種以電漿作為離子源的離子注入方法

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