基本介紹
- 中文名:電漿源離子注入
- 別名:電漿浸沒式離子注入
- 釋義:一種以電漿作為離子源的離子注入方法
電漿浸沒式離子注入一般指本詞條
等離子體源離子注入,亦稱“電漿浸沒式離子注入”。一種以電漿作為離子源的離子注入方法。通過射頻放電、熱陰極放電或金屬陰極真空弧放電產生所需的各種氣體或固態離子的大面積均勻電漿,使處於電漿鞘包圍中的材料或零部件...
《電漿浸沒離子注入製備P型ZnO薄膜材料的研究》是依託復旦大學,由梁榮慶擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 ZnO材料具有優異的光電特性,且具有資源豐富,價格低廉等優點。本徵ZnO材料呈n型特性,相比較ZnO異質p-n結(ZnO作為n區)...
《電漿浸泡式離子注入與沉積技術》是2012年國防工業出版社出版的圖書,作者是湯玉寅、王浪平。內容簡介 本書主要論述用於非半導體材料表面改性的PlIl、PIIID技術相關物理與技術問題,關鍵部件及處理工藝問題。本書的主要內容包括PIIID技術...
《絕緣材料電漿浸沒離子注入表面最佳化》是依託哈爾濱工業大學,由田修波擔任項目負責人的專項基金項目。項目摘要 電漿浸沒注入利用工件施加負偏壓對離子吸引從而形成離子注入效應,所以對導電材料處理是有效的。但對於絕緣材料,由於非...
從實際套用角度闡述低溫電漿在表面強化領域的套用。首先對低溫電漿的本質、不同電漿源的特性進行了探討,然後介紹電漿輔助物理氣相沉積、電漿增強化學氣相沉積、電漿輔助熱處理、電漿浸沒離子注入與沉積、電弧噴塗、...
1、 用電漿浸沒式離子注入(PIII)對有機電致發光器件(OLED)的ITO透明電極進行改性研究。通過最佳化電漿氣氛對PIII離子注入選擇性的控制,提高ITO表面功函式,並改善其表面功函式的穩定性,ITO表面功函式提高幅度高達1.1eV,經過...
《電漿基低能離子注入合成Fe-N相的穩定性研究》是依託大連理工大學,由雷明凱擔任項目負責人的專項基金項目。 項目摘要 採用強流脈衝離子束輻照電漿基低能離子注入合成的Fe-N二元系單相和混合相塗層。研究在300-25℃溫度區間、不同...
《保形性電漿基離子注入數值模擬及實驗研究》是依託復旦大學,由孫琦擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 電漿基離子注入(PBII-Plasma based ion implantation)技術是極具潛力的新型材料表面改性技術。本項目研究不同幾何形狀...
《鋁合金電漿基離子注入氮碳梯度層結構及其耐磨性》是依託哈爾濱工業大學,由夏立芳擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 采有盆栽、田間、水培試驗和測試分析方法、研究了春小麥氮磷鉀營養效率的基因型差異及其機理。探明了小麥氮磷鉀...
種植體頸部菌斑是導致種植體周圍炎、影響種植義齒壽命及成功率的主要因素之一。鋅的氧化物具有良好的抗菌性能。本實驗採用全方位電漿浸沒離子注入與沉積技術,克服了傳統離子注入的直射性限制,在鈦種植體表面形成均勻一致的納米鋅及鋅的...
工程中心成功研製出電漿紡織前處理設備、KE-320型高亮度LED圖形化襯底刻蝕系統、KMT-200A&KMP-200B原子層沉積系統、電漿低溫滅菌櫃、ICP-98C型高密度電漿刻蝕機、PIII-ICP08A電漿浸沒式離子注入機、電漿化驗單滅菌...
電漿浸沒離子注入批量處理過程的鞘層有限碰撞方法研究 項目來源 國家自然科學基金 開始時間 2009-01-01 結束時間 2011-12-01 項目經費 32萬 擔任角色 負責 項目類別 縱向項目 項目狀態 完成 出版物名稱 電漿浸泡式離子注入與沉積...
擁有大型電子束焊接機、攪拌摩擦焊接系統、CO₂雷射加工系統、真空擴散連線設備、等 離子噴塗設備、電漿浸沒離子注入裝置、YAG固體雷射系統、弧焊機器人系統、VPPA焊接系統、雙絲焊設備、微小焦點X射線實時成像系統等國內先進設 備。此外...
機械振動與機構動力學;偏微分方程及套用;計算力學與結構最佳化;泛函分析與運算元理論;紡織流體力學;計算機算法分析;非線性隨機結構動力學;電漿浸沒離子注入;電漿基礎理論與計算模擬;數理神經科學與腦信息處理。