電子束聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年4月30日啟用。
基本介紹
- 中文名:電子束聚焦離子束雙束電子顯微鏡
- 產地:捷克
- 學科領域:物理學、材料科學
- 啟用日期:2015年4月30日
- 所屬類別:分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 雷射共焦顯微鏡
電子束聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年4月30日啟用。
電子束聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年4月30日啟用。技術指標(1)電子束解析度 1、高真空:1nm 30kV (二次電子); 2.5 nm 30kV (背散射電子);1.5...
雙束場發射聚焦離子束及掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器,於2014年2月27日啟用。技術指標 電子束解析度:0.9nm,離子束解析度:4nm。主要功能 製備透射電鏡樣品。
在成像方面,聚焦離子束顯微鏡和掃描電子顯微鏡的原理比較相近,其中離子束顯微鏡的試片表面受鎵離子掃描撞擊而激發出的二次電子和二次離子是影像的來源,影像的解析度決定於離子束的大小與畸變修正、帶電離子的加速電壓、二次離子訊號的強度...
聚焦離子束雙束系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年03月31日啟用。技術指標 電子束:解析度: ≤1.0 nm@15KV ,≤1.9 nm@1kV; 放大倍率:12x ~ 1000kx;離子束:解析度: ≤ 2.5nm@30kV; 放大倍率:300x ~ ...
聚焦離子電子雙束系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2012年6月11日啟用。技術指標 二次電子像解析度:0.9nm(15kV),1.4nm(1kV);放大倍數:40~600000;加速電壓:0.5~30kV;離子成像解析度:4nm(30kV) 加速電壓:0.5~...
電子束誘導沉積中的電子束往往由掃描電子顯微鏡或掃描透射電子顯微鏡提供,而離子束誘導沉積(IBID)則用聚焦離子束代替了電子束。前體材料一般是液體或固體;在沉積實驗前,前體材料會被汽化或升華,之後在實驗中以準確控制的速率進入掃描...
目前,電子顯微鏡的放大倍數可達100萬倍以上。通常使用的電子顯微鏡分為透射式和掃描式兩種。有些特殊顯微鏡還利用質子束、X射線或正離子束代替電子束以獲得放大影像。電子顯微鏡已廣泛用於病毒、蛋白質、分子、金屬表面和物質結構的研究。
場發射電子束/聚焦離子束雙束工作站是一種用於電子與通信技術領域的醫學科研儀器,於2015年12月16日啟用。技術指標 Electron beam: ≤1.0nm@15V,≤1.9nm@1KV;Ion Beam:≤2.5nm@30kV。主要功能 雙束系統中場發射掃描電鏡主要用於...
第一節 積體電路製造中的三束技術 一、電子束技術 二、光子束技術 三、離子束技術 第二節 聚焦離子束技術 一、常規離子束加工與聚焦離子束加工 二、聚焦離子束技術的發展歷史 三、聚焦離子束系統的分類 第三節 聚焦離子束系統組成 ...
加工束品質受聚焦離子束、電子束以及雙束同步工作時中和離子的位置和比例等因素影響,已有模型中的高斯分布假設不再成立,且很難直接檢測。本項目擬研究電子束-離子束雙束融合模型及同步微納加工精度,內容包括:雙束融合模型的建立、同步...
系統研究Ga離子注入、電子注入、納米尺度等因素引起TbMnO3薄膜阻變效應的物理機制;運用X射線衍射、透射電子顯微鏡、原子力顯微鏡、掃描探針顯微鏡、電子探針、差反射譜等方法分析研究離子、電子注入前後TbMnO3薄膜的微結構變化,採用光學、電學...
聚焦離子束系統 (FIB) 是一個非常類似於聚焦電子束系統(如掃描電子顯微鏡)的工具。 這些系統令離子束指向樣品,然後離子束經相互作用可產生一些信號,通過將這些信號映射至離子束位置即可生成高放大倍數的樣品圖像。 聚焦離子的質量比電子...