離子注入與沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年1月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:離子注入與沉積系統
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2015年1月1日
- 所屬類別:工藝試驗儀器
離子注入與沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年1月1日啟用。
離子注入與沉積系統 離子注入與沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年1月1日啟用。技術指標 金屬、氣體離子注入以及濺射沉積。主要功能 精密工件表面改性,提高硬度、導電性能、耐腐蝕性能等。
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大面積離子注入與沉積設備 大面積離子注入與沉積設備是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2013年4月28日啟用。技術指標 濺射靶直徑100CM,真空1.0×10-3Pa。主要功能 雙靶中頻磁控濺射。
1.3 束線離子注入與電漿浸泡式離子注入技術的比較 1.3.1 PIIl與IBIl技術的比較 1.3.2兩種離子注入技術要素的比較 1.3.3 IBIl和PIIl各自的優勢及套用領域 1.4電漿浸泡式離子注入與沉積技術研究現狀 1.4.1 PI...
從這個意義上講,三極型的PIII離子注入是粗糙版本的離子注入,因其不含有過剩的組分如離子束流控制,束聚焦,附加的格線加速器等。工作 編輯 在傳統的浸沒型PIII系統(也稱為二極型結構)中,晶片保持負電位,正電性電漿中的帶正電荷的...
因此,全方位離子注入與沉積技術在材料表面改性方面具有廣泛的套用前景。全方位離子注入與沉積設備 我課題組最新研製的用於批量處量的全方位離子注入與沉積設備。該設備主要由真空系統、金屬電漿源、高壓靶台、射頻電漿源、磁控濺射...
第6章電漿浸沒離子注入與沉積 6.1電漿浸沒離子注人原理 6.1.1電漿浸沒離子注入原理 6.1.2動態鞘層擴展模型 6.1.3PIII的優缺點 6.2PIII設備 6.2.1真空系統 6.2.2電漿源 6.2.3高壓系統 6.2.4供氣系統 6...
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6 等離子體增強化學氣相沉積塗層組織特徵 6.1等離子體增強化學氣相沉積塗層類型 6.2等離子體增強化學氣相沉積塗層組織特徵 參考文獻 第5章 氣相沉積設備 1 化學氣相沉積設備系統 1.1 CVD塗層設備系統主要技術指標 1.2 CVD塗層設備系...
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微型機電系統(Micro Electro Mechanical System: MEMS)是指那些外形輪廓尺寸在毫米量級以下,構成元件是微米量級的可控制、可運動的微型機電裝置,它是自微電子技術問世以來,人們不斷追求高新技術微型化的必然結果。
根據2020年10月研究所官網顯示,核工業西南物理研究院成都同創材料表面新技術工程中心主要設備有多功能視線離子注入機、生物離子注入機、多功能離子注入機、全方位離子注入機、全方位離子注入/沉積系統、汽車零部件專用鍍膜機、車燈保護膜鍍膜...
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