| 中文名稱 | 離子刻蝕 |
| 英文名稱 | ion etching |
| 定 義 | 利用離子轟擊作用，對材料表面進行刻蝕的過程。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），表面改性和塗層技術（四級學科） |
| 中文名稱 | 離子刻蝕 |
| 英文名稱 | ion etching |
| 定 義 | 利用離子轟擊作用，對材料表面進行刻蝕的過程。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），表面改性和塗層技術（四級學科） |
中文名稱 離子刻蝕 英文名稱 ion etching 定義 利用離子轟擊作用,對材料表面進行刻蝕的過程。 套用學科 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),...
反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的乾法腐蝕技術。它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的,利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕,即是...
刻蝕,英文為Etch,它是半導體製造工藝,微電子IC製造工藝以及微納製造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯繫的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂刻蝕,...
通過選擇和控制放電氣體的成分,可以得到較好的刻蝕選擇性和較高的刻蝕速率,但刻蝕精度不高,一般僅用於大於4～5微米線條的工藝中。 ③ 反應離子刻蝕:這種刻蝕過程...
刻蝕技術(etching technique),是在半導體工藝,按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性腐蝕或剝離的技術。刻蝕技術不僅是半導體器件和積體電路...
離子束刻蝕也稱為離子銑,是指當定向高能離子向固體靶撞擊時,能量從入射離子轉移到固體表面原子上,如果固體表面原子間結合能低於入射離子能量時,固體表面原子就會被...
反應性離子刻蝕 (reaction ionetching;RIE)是製作半導體積體電路的蝕刻工藝之一。在除去不需要的積體電路板上的保護膜時,利用反應性氣體的離子束,切斷保護膜物質的...
等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、電漿刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是乾法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在...
離子表面處理,離子束混合是用離子轟擊鍍有多層薄膜的金屬,使各層原子因離子碰撞發生互混,主要用於冶金學研究。離子注入技術在積體電路和微電子技術方面已得到廣泛套用...
深等離子體刻蝕,也稱大深寬比刻蝕(High Aspect Ratio Etching,HARE),一般是選用Si作為刻蝕微結構的加工對象,它有別於VLSI 中的矽刻蝕,因此又稱為先進矽刻蝕(...
《離子束刻蝕法》是一款Android平台的套用。...... 2013年的離子束刻蝕法套用涵蓋了行動在大型印度羽毛球聯賽的唯一目的就是提供接近實時的更新了,火柴,分數、照片和...
離子銑,也稱為離子束刻蝕(IBE),是具有強方向性電漿的一種物理刻蝕機理。它能對小尺寸圖形產生各向異性刻蝕。...
刻蝕修飾法是在定向自組裝工藝中實現中性襯底中部分區域非中性化的一種手段。...... 使用離子刻蝕修飾光刻膠條寬度並轉移至 PS 層上; 使用專用有機溶劑去除光刻...
乾法刻蝕是用等離子體進行薄膜刻蝕的技術。當氣體以等離子體形式存在時,它具備兩個特點:一方面等離子體中的這些氣體化學活性比常態下時要強很多,根據被刻蝕材料的不...
刻蝕設備的發展和光刻技術,互連技術密切相關。High K / Low K材料,銅互連,Metal Gate,double Pattern等技術的發展都對刻蝕設備提出了新的需求·...
刻蝕負載效應,是指局部刻蝕氣體的消耗大於供給引起的刻蝕速率下降或分布不均的效應。負載效應(loading effect)可以分為3種:巨觀負載效應(macroloading)、微觀負載效應...
反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的乾法腐蝕技術。它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的,利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕,即是...
薄膜刻蝕技術是一種使用物理或化學的方法使薄膜材料消蝕的技術。...... 濕刻法已不能適應需要,於是出現定向腐蝕法,它是通過電漿刻蝕或反應離子刻蝕得到的。因為...
電子束與離子束微細加工是指通過具有一定能量的電子束、離子束與固體表面相互作用來改變固體表面物理、化學性質和幾何結構的精密加工技術。用具有一定能量的電子束照射...
乾法刻蝕主要包括等離子增強反應離子刻蝕、電子迴旋共振刻蝕(ECR)、感應耦合電漿刻蝕(ICP)等蝕刻技術。還有其他的一些特殊工藝套用在整個實驗與製作的過程中,像電子...
離子吹塵槍(離子風槍),是一種手持式消除靜電的專用設備。屬使用壓縮氣系列的除靜電產品的一種。具有安裝簡易、工作穩定、風速強勁、消除靜電迅速的特點。...
DRIE,全稱是Deep Reactive Ion Etching,深反應離子刻蝕,一種微電子乾法腐蝕工藝。...... DRIE,全稱是Deep Reactive Ion Etching,深反應離子刻蝕,一種微電子乾法腐蝕...
RIE,全稱是Reactive Ion Etching,反應離子刻蝕,一種微電子乾法腐蝕工藝。是乾蝕刻的一種,這種蝕刻的原理是,當在平板電極之間施加10～100MHZ的高頻電壓(RF,radio ...