《離子束刻蝕法》是一款Android平台的套用。
基本介紹
- 軟體名稱:離子束刻蝕法
- 軟體平台:Android
- 軟體大小:3.20MB
《離子束刻蝕法》是一款Android平台的套用。
《離子束刻蝕法》是一款Android平台的套用。...... 2013年的離子束刻蝕法套用涵蓋了行動在大型印度羽毛球聯賽的唯一目的就是提供接近實時的更新了,火柴,分數、照片和...
離子束刻蝕也稱為離子銑,是指當定向高能離子向固體靶撞擊時,能量從入射離子轉移到固體表面原子上,如果固體表面原子間結合能低於入射離子能量時,固體表面原子就會被...
由於曝光束不同,刻蝕技術可以分為光刻蝕(簡稱光刻)、X射線刻蝕、電子束刻蝕和離子束刻蝕,其中離子束刻蝕具有解析度高和感光速度快的優點,是正在開發中的新型技術。...
用於離子束分析的MV級加速器已有專門的商業化設備。用途③離子束加工較低能量的離子束廣泛用於工業加工,如離子減薄、離子拋光、離子束打孔、離子束刻蝕、離子束濺射...
比較成熟並已得到實用的有電子束曝光、離子束摻雜(見離子注入摻雜工藝)和離子束刻蝕;離子束曝光、離子束外延、離子束合成薄膜、離子束退火等新技術也已經開始得到...
離子源(英文名稱:Ion source)是使中性原子或分子電離,並從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕...
電漿加工技術已得到較多的套用,例如電漿CVD、低溫電漿PBD以及電漿和離子束刻蝕等。目前電漿多用於氧化物塗層、等離子刻蝕方面,在製備高純碳化物和...
雙等離子管是使中性原子或分子電離,並從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及...
當離子束垂直入射襯底時,由於圖形側壁較為陡直,離子束對側壁的入射角度很大,成掠射狀態,離子束對側壁的刻蝕速率低。隨著刻蝕深度的增加,再沉積形成一定厚度的側...
用於製備微米、亞微米和納米磁性隧道結、磁性隧道結陣列、TMR磁讀出頭和MRAM方法有光刻和電子束曝光以及離子束刻蝕、化學反應刻蝕、聚焦離子束刻蝕等,其中光刻技術...
1996年中國科學院光電子技術研究所微細加工光學技術國家重點實驗室和四川大學杜春雷等報導了在德國Erlangen大學光學研究所利用雷射直寫光刻方法和反應離子束刻蝕方法結合...
為了得到更高的解析度, 光刻技術使用的光源波長從紅外發展到深紫外, 加工方法從普通的雷射刻蝕, 發展到 X 射線刻蝕、電子束刻蝕、離子束刻蝕、納米圖形轉印等. 這...
在製作集成光學調製器和光開關時,一般以LiNbO3等電光晶體為襯底材料,採用向LiNbO3襯底擴散Ti的方法和各種刻蝕技術(如化學腐蝕或離子束刻蝕等)來形成各種條波導和光...