金屬薄膜濺射儀

金屬薄膜濺射儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年8月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：金屬薄膜濺射儀
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、化學、材料科學
• 啟用日期：2016年8月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

1.3台濺射靶槍，靶材尺寸為3英寸； 2.最高550℃樣品台加熱，PID控溫，控溫精度±1℃； 3.適合基片最大尺寸6英寸，並配置氣動基片擋板； 4.兩路質量流量計控制進氣，最大流量為100sccm，通過電容式薄膜規壓力設定自動調節進氣量，流量精度為量程的1%。

主要功能

二維原子材料生長專用金屬薄膜濺射儀是一種磁控濺射鍍膜儀，可進行各種金屬與非金屬材料膜層的濺射沉積，並可控制沉積膜層的速率和厚度。