多靶位磁控共濺射儀

多靶位磁控共濺射儀是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年12月14日啟用。

基本介紹

• 中文名：多靶位磁控共濺射儀
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2016年12月14日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 電加工工藝實驗設備

技術指標

3個射頻電源，最大功率300W；1個脈衝直流電源，最大功率1000 W；基片台最大可升溫至550℃。

主要功能

用於製備金屬、半導體、絕緣體等薄膜。