納米器件濺射儀是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2008年12月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：納米器件濺射儀
- 產地：日本
- 學科領域：信息與系統科學相關工程與技術
- 啟用日期：2008年12月1日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
樣品尺寸為4寸矽片濺射室極限真空優於1.210-6 Pa，進樣室(loadlock)真空優於6.710-4 Pa澱積薄膜厚度均勻性優於3%襯底可加熱，溫度最高可達800 oC。
主要功能
採用LTS陰極，陰極(靶位)4個，配備3個直流電源和1個射頻電源，可進行直流磁控濺射和射頻濺射，可進行共濺射可通Ar，N2，O2等3路氣體，可進行反應濺射進樣室有射頻電源可對樣品進行預濺射清洗套用範圍包括超薄金屬層，金屬矽化物薄膜，高介電常數柵介質，金屬納米晶材料的澱積。
