連續離子注入是2011年公布的材料科學技術名詞。
| 中文名稱 | 連續離子注入 |
| 英文名稱 | steady ion implantation |
| 定 義 | 利用連續(直流)離子束進行的離子注入過程。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），表面改性和塗層技術（四級學科） |
連續離子注入是2011年公布的材料科學技術名詞。定義利用連續(直流)離子束進行的離子注入過程。出處《材料科學技術名詞》。...
複合離子注入機是一種用於物理學領域的儀器，於2011年12月6日啟用。技術指標 （a）一個MEVVA型高能金屬離子源；一個高能kaufman氣體離子源。 （b）離子源能量連續可調，氣體源注入電壓可達10-100 KV，金屬源可達10-100 KV，離子源束...
真空多弧離子鍍及離子注入設備是一種用於物理學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的物理性能測試儀器，於2012年1月12日啟用。技術指標 考夫曼離子源：柵網口徑：6cm，離子能量：100-600eV，離子束流：100mA，不均勻性：±15%，...
《離子注入寬禁帶半導體（GaN和ZnO）的非晶化研究》是依託武漢大學，由劉昌擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 離子注入摻雜GaN外延薄膜會引起晶格膨脹，其程度正比於注入離子的劑量，過度的晶格膨脹會導致局部晶格崩潰，形成孤立的非晶核，...
《保形性電漿基離子注入數值模擬及實驗研究》是依託復旦大學，由孫琦擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 電漿基離子注入(PBII-Plasma based ion implantation)技術是極具潛力的新型材料表面改性技術。本項目研究不同幾何形狀...
並做出了創新性的工作.DC-SC光明極注入器新的設計方案得到國內外專家的好評,注入器可以提供低發射度,皮秒超短脈衝電子束流達到樣機的設計指標,在這個階段自主研發了離子注入型鎂陰極,為光陰極開闢了新方向,研製了用於大功率連續波的同軸...
取經斜面培養的桔青黴孢子，用無菌水製成10⁵孢子懸浮液，將0.2毫升孢子懸浮液分裝於玻璃表面皿中，無菌乾燥1小時，將待處理的含菌培養皿放入離子注入機內進行連續N⁺離子注入，靶室內真空度為5×10帕，注入能量為30kev，劑量為50...
鶴麥1號是一個小麥品種，是以周麥13為親本，脈衝式全元素Titam離子注入機（離子束能量為40Kev，劑量為4×1017N+/cm2）注入誘變後選擇變異株，然後採用系譜法經過連續4代定向選育而成。形態特徵 栽培技術要點 1．播期和播量：10月...
2 離子注入非連續納米多層膜巨磁電阻研究 國家自然科學基金59771026 12萬 1998-2000 3 間斷型納米多層膜巨磁電阻效應研究 教育部骨幹教師資助計畫[2000]65 12萬 2000-2001 4 磁晶各向異性納米多層膜複合交換磁體合成研究 廣東省自然科學...
