真空多弧離子鍍及離子注入設備是一種用於物理學、材料科學、冶金工程技術、機械工程領域的物理性能測試儀器，於2012年1月12日啟用。
基本介紹
- 中文名：真空多弧離子鍍及離子注入設備
- 產地：中國
- 學科領域：物理學、材料科學、冶金工程技術、機械工程
- 啟用日期：2012年1月12日
- 所屬類別：物理性能測試儀器 > 力學性能測試儀器 > 材料試驗機
技術指標,主要功能,
技術指標
考夫曼離子源：柵網口徑：6cm，離子能量：100-600eV，離子束流：100mA，不均勻性：±15%，均勻區：ф170mm，距離：300m，工作氣體：氬或氧。多弧電源：電源電壓：AC220V±15%,50/60HZ，額定輸入功率：7KVA，額定輸入電流：32A，額定輸出電壓：20-40V（可調），開關頻率：100KHZ，輸出電流：20~120A（連續可調）。金屬離子源：單電荷離子能量範圍為20~80Kev，平均離子束流：≧10mA，引出電壓：20-80kV，束斑直徑：10cm，金屬源尺。
主要功能
材料表面清洗與活化，材料表面離子注入改性及多種功能薄膜的製備。
