超大規模積體電路——基礎·設計·製造工藝

基本介紹

• 書名：超大規模積體電路——基礎·設計·製造工藝
• 作者：[日]岩田　穆,[日]角南英夫 
• 譯者：彭軍
• ISBN：978-7-03-020278-9
• 類別：理論專著/套用技術
• 頁數：309
• 定價：42.00
• 出版社：科學出版社
• 出版時間：2008年1月出版
• 裝幀：平裝
• 開本：B5
• 對象：本科以上文化程度

本書共分為上下兩篇，上篇為基礎設計篇，主要介紹VLSI的特徵及作用、VLSI的設計、邏輯電路、邏輯VLSI、半導體存儲器、模擬VLSI、VLSI的設計法與構成法、VLSI的實驗等；下篇為製造工藝篇，主要介紹集成工藝、平板印刷、刻蝕、氧化、不純物導入、絕緣膜堆積、電極與配線等。
本書內容豐富，條理清晰，實用性強，既可供超大規模積體電路研發和設計人員及半導體生產單位管理人員使用，也可作為各院校積體電路相關專業的本科生、研究生及教師的參考書。