《超大規模積體電路》一書共分為上下兩篇，上篇為基礎設計篇，主要介紹VLSI的特徵及作用、VLSI的設計、邏輯電路、邏輯VLSI、半導體存儲器、模擬VLSI、VLSI的設計法與構成法、VLSI的實驗等；下篇為製造工藝篇，主要介紹集成工藝、平板印刷、刻蝕、氧化、不純物導入、絕緣膜堆積、電極與配線等。
基本介紹
- 書名：超大規模積體電路
- 作者：岩田（日）
- ISBN：9787030202789
- 出版社：科學出版社
- 出版時間：2008年01月
- 開本：16開
- 定價：42.00 元
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編輯推薦
本書內容豐富，條理清晰，實用性強，既可供超大規模積體電路研發和設計人員及半導體生產單位管理人員使用，也可作為各院校積體電路相關專業的本科生、研究生及教師的參考書。
圖書目錄
上篇基礎與設計
第1章VLSI的特徵及任務
第2章VLSI的器件
第3章邏輯電路
第4章邏輯VLSI
第5章半導體存儲器
第6章模擬VLSI
第7章無線通信電路
第8章VLSI的設計方法及構成方法
第9章VLSI的測試
下篇製造工藝
第10章LSI的製造工藝及其課題
第11章集成化工藝
第12章平版印刷術
第13章腐蝕
第14章氧化
第15章摻雜
第16章澱積絕緣膜
第17章電極和布線
第18章後工序——封裝
引用·參考文獻
