半金屬材料簡介
1983年,荷蘭Nijimegen大學的Groot教授對half-Heusle合金NiMnSb進行能帶計算後發現其具有一種特殊的新型能帶結構,如圖1:NiMnSb的多數白旋方向圖所示:電子在一個自旋方向上呈現金屬性,也就是在費米能級處有電子態的存在;而在另一個自旋方向上呈現半導體性,也就是在費米能級處存在禁帶。他們將具有這種特殊能帶結構的材料稱為半金屬(half-metal)材料。這裡所指的半金屬並不是傳統意義上的半金屬(semi-metal,如As、Sb、Bi等),傳統的
半金屬是導電電子濃度遠低於正常金屬的一類物質的統稱,因其導電能力介於金屬與絕緣體之間而稱為半金屬。其能帶特點是導帶與價帶之間部分重疊,價帶電子在無需熱激發的情況下便會流入能量較低的導帶底部。而半金屬材料是電子結構同時具有金屬性與半導體性的特徵,這種微觀上金屬性與半導體性的共存被稱為半金屬性。
性質
半金屬材料具有特殊的能帶結構,因此其具有一些特殊的性質:
1、它在費米能級處的電子極化率高達100% ;
2、它的總磁矩為波爾磁矩的整數倍;
3、一些半金屬鐵磁體還具有較高的居里溫度。
這些特點使半金屬材料非常適合在自旋電子器件中套用,尤其適合作為自旋注入源材料。
分類
1)以half-Heusler(半霍伊斯勒)和Heusler(全霍伊斯勒)合金為代表的三元金屬化合物:NiMnSb、PtMnSb、FeMnSb等。Half-Heusler半金屬鐵磁體材料屬於面心立方;Heusler半金屬鐵磁體具有
結構,也屬於面心立方。這兩種合金材料都具有較大的d電了交換劈裂,並引起d帶電了傾向於費米面極化。正常Heusler合金具有Oh對稱性,而Half-Heusler合金只具有Td對稱性,這種對稱性破缺的結果不僅導致時問反演對稱性的破缺(存在於所有的鐵磁材料中),而且引起空間對稱性和連線對稱性的破缺,導致較大的白旋劈裂。由於對稱性的破缺,伴隨有電了的鍵合和電了態的耦合及對點群對稱性的修正,是產生半金屬性的重要原因。
2)磁性
金屬氧化物:
和
等。金紅石型
被廣泛地用作
磁記錄材料。早在六七十年代,人們就對其磁學性質和光學性質做了十分詳細的研究,但直到1986年,人們才發現
的能帶結構,並指出它也是一種半金屬鐵磁體,其它的一些能帶計算工作又給出了同樣的結論。美國霍布金斯大學、布朗大學和IBM公司聯合研究組用CVD法製備出單晶膜,用點接觸反射法測得該樣品的極化率高達0.96和0.984。
3)雙鈣鈦礦化合物:
、
。以
為例,這類半金屬鐵磁體的白旋向上的能態在費米面附近有一個能隙,而白旋向下的能態是金屬性的,這與其它的半金屬鐵磁體剛好相反。
4)閃鋅礦型過渡金屬硫族化合物或磷族化合物:VTe,CrSe,CrTe,CrAs,MnBi,CrSb等。研究發現,這類半金屬鐵磁體的穩定態是NiAs相,閃鋅礦相只是它們的亞穩態。三個過渡金屬硫系化合物CrTe、CrSe和VTe的閃鋅礦結構相是優質半金屬鐵磁體,不僅具有很寬的半金屬能隙,相對於基態相的總能還不高,大大低於閃鋅礦結構的過渡金屬V族化合物的相對總能,同時,其結構穩定性明顯優於己經較好地合成出來的CrAs閃鋅礦結構薄膜(最大約5個單胞層厚)。很寬的半金屬能隙意味著可能在較高溫度下得到高
自旋極化率,這已被德國Kübler教授的最新計算所證明:相對總能低並且結構穩定性好,使得足夠厚度(約5至50個單胞層)的
薄膜材料或尺度足夠大的
納米結構易於通過外延生長技術獲得。這些優異特性使得這些材料將很可能在納米尺度的
自旋電子學器件中得到實際套用。