綜合測量系統

綜合測量系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2009年5月4日啟用。

基本介紹

• 中文名：綜合測量系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2009年5月4日
• 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 螢光分光光度計

技術指標

配備有He3制冷機，溫度範圍為0.4K-400K，磁場範圍為-140000Oe至+140000Oe，1 T以內的磁場解析度為 0.02 mT，控溫模式為連續低溫控制和溫度掃描模式溫度穩定性 ±0.2% T < 10K；±0.02% T > 10K。

主要功能

可以提供極低溫高精度的電學測量，包括基系統和He3制冷機的直流電輸運選件（DC Resistivity）；高精度、高度自動化、極低溫的比熱測量（Heat Capacity）；高靈敏度的熱輸運測量（TTO）， 獨特的設計使得PPMS配合該選件, 能夠進行以下參數的測量:AC電輸運、熱導率、塞貝克係數、品質因子等測量。