納米螢光光譜成像系統

納米螢光光譜成像系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2016年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：納米螢光光譜成像系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2016年12月1日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀

技術指標

光譜儀： 類型：透射光柵 光譜範圍 400 nm – 1,000 nm 光譜解析度2.8 nm (with 30 μm Slit) 光譜儀集成CCD： 類型：EMCCD 像素尺寸： 16μm x 16μm 曝光時間範圍：0.3μs – 3.3μs 解析度：512 x 512 熱電製冷： –100 °C 光源： 光源類型：Quartz Halogen Aluminum Reflector 波長：400 nm - 2,500 nm 功率：150 watts 平移台： 解析度：10 nm Step Size 行程： 114 mm x 75 mm。

主要功能

Cytoviva高光譜納米螢光顯微鏡是一款具有高信噪比和高光譜解析度成像的顯微系統，可以用來觀測和定量分析各種生物、不同環境的納米尺度樣品，包括金屬納米顆粒、藥物輸送、碳納米管、病原體檢測、金屬氧化物等等。Cytoviva高光譜納米螢光顯微鏡主要實現兩種功能，一種是增強暗場顯微系統，另一種是雙模式螢光系統。增強暗場顯微系統替代標準的聚光鏡，提高了暗場對準和聚焦或者大角度照明，增強了信噪比。