空心陰極離子鍍技術屬於弧光放電范時，通過烘烤加熱工件及氬離子轟擊淨化。工件經清洗人爐後抽真空。當真空度達到6X10Pa後，開啟烘烤加熱電源，對工件進行加熱。達到一定溫度後，從鉭管通人氬氣，真空度降至2~3Pa,接通工件偏壓電源，電壓調至500~ 1000V。此時產生輝光放電，獲得氬離子。氬離子在負偏壓電場的作用下，對工件進行轟擊淨化。轟擊10~20min；沉積氮化鈦硬質塗層。將工件偏壓降至50~ 200V,開啟空心陰極電源，加大氬氣的流量，當真空度達到100Pa左右時，銀管首先產生輝光放電，然後很快轉為弧光放電。內徑6mm的鉭管，弧電流50~80A; 內徑15mm 的鈕管，弧電流可達300~400A。如此高密度的電子流到達坩堝，將金屬加熱、蒸發。首先沉積一層純鈦的底層，以提高塗層和基體的結合力。
基本介紹
- 中文名：空心陰極離子鍍技術
- 定義：通過烘烤加熱工件及氬離子轟擊淨化
將偏壓降至50~100V,通人氮氣。沉積氮化鈦塗層時的真空度一般為(3~8)X10Pa，獲得緻密的氨化鈦等化合物塗層。沉積時間20~40min,由沉積厚度決定。達到預定沉積時間後，關閉弧電源、偏壓電源、工件轉架、氬氣、氮氣。
