《積體電路工藝中的化學品》是2007年化學工業出版社出版的圖書，作者是戴猷元。本書是介紹積體電路工藝中的化學品的資料信息型參考書。
基本介紹
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
《積體電路工藝中的化學品》共7章，內容包括序言、薄膜製備技術及化學品、晶片清洗技術及化學品、光刻技術及化學品、刻蝕技術及化學品、化學機械拋光技術及化學品、載氣及其他化學品。2-6章的內容都與積體電路製造過程的關鍵技術領域相關。在各章的開始，提供了積體電路製造過程關鍵技術的概述、所涉及的化學反應機理等，然後詳細提供工藝中用到的化學品的物理化學性質、套用描述、毒性及安全等相應信息。書中涉及了200多種化學品和氣體，全書最後還列出了300餘篇參考文獻。
將半導體元件生產所需的化學品的有用信息和數據匯集在一起，以“化學品”為中心展開系統描述，提供的化學及工程知識將幫助讀者理解電子化學品的關鍵性作用，在電子化學品和積體電路製造工藝之間搭建起連線的“橋樑”。 《積體電路工藝中的化學品》是微電子學研究工作者、從事積體電路製造的過程工程師、電子化學品研究開發者及生產供應企業的科技人員和其他相關人員及有興趣讀者的有價值的參考書。
圖書目錄
第一章 序言
第二章 薄膜製備技術及化學品
第三章 晶片清洗技術及化學品
第四章 光刻技術及化學品
第五章 刻蝕技術及化學品
第六章 化學機械拋光技術及化學品
第七章 載氣及其他化學品
附錄 化學品及氣體理化性質
參考文獻
縮略語
