真空鍍膜機

真空鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發濺射兩種。

基本介紹

  • 中文名:真空鍍膜機
  • 主要思路:蒸發
  • 適用範圍:衛浴五金
  • 主要分類:溶膠凝膠法
簡介,使用步驟,電控櫃操作,DEF-6B操作,關機順序,適用範圍,化學成分,薄膜均勻性概念,主要分類,操作程式,

簡介

需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對於濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。
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使用步驟

電控櫃操作

1. 開水泵、氣源。
2. 開總電源。
3. 開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小於10後,再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、預抽,開渦輪分子泵電源、並啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小於2為止,約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以後,關預抽,開前級泵和高真空閥繼續抽真空,抽真空到達一定程度後才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以後才能打開電子槍電源。

DEF-6B操作

1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關,延時、電源及保護燈亮,三分鐘後延時及保護燈滅,若後門未關好或水流繼電器有故障,保護燈會常亮。
3. 開高壓,高壓會達到10KV以上,調節束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉電流在1~1.7之間擺動。

關機順序

1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時,依次關高閥、前級、機械泵,這期間約需40分鐘。
3. 到50以下時,再關維持泵。
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適用範圍

1.建築五金:衛浴五金(如水龍頭).門鎖.門拉手.衛浴、五金合葉、家具等。
2.制表業:可用於表殼.錶帶的鍍膜、水晶製品。
3.其它小五金:皮革五金.不鏽鋼餐具.眼鏡框、刀具、模具等.
4.大型工件:汽車輪轂、不鏽鋼板.招牌.雕塑等。
5、不鏽鋼管和板(各種類型表面)
6、家具、燈具、賓館用具。
7、鎖具、拉手、衛浴五金、高爾夫球頭、不鏽鋼餐具、器皿等五金製品鍍超硬裝飾膜。
8、手錶、錶帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾(金銀)納米膜和納米膜和納米疊層膜。

化學成分

薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕鬆將粗糙度控制在可見光波長的1/10範圍內,也就是說對於薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
2.化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分並不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜並非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
3.晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題,具體見下。

主要分類

主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。
一、對於蒸發鍍膜:
一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
厚度均勻性主要取決於:
1。基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3. 蒸發功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間,厚度大小。
組分均勻性:
蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由於原理所限,對於非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
晶向均勻性:
1。晶格匹配度
2。 基片溫度
3。蒸發速率
濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在於濺射速率將成為主要參數之一。
濺射鍍膜中的雷射濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈衝濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

操作程式

真空鍍膜機操作程式具體操作時請參照該設備說明書
和設備上儀錶盤指針顯示及各旋鈕下的標註說明。
① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。
② 打開總電源開關,設備送電。
③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲後,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。
④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。
⑤ 落下鐘罩。
⑥ 啟動抽真空機械泵。
⑦ 開複合真空計電源(複合真空計型號:Fzh-1A)。
a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
b.低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
⑧ 當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑨ 真空鍍膜機開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。
⑩ 低壓閥拉出。重複一次⑦動作程式:左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥(閥桿順時針旋轉)。
⑪ 等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規管燈絲開關。
a. 發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。
b. 左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑫ 旋轉發射調節鈕“4”,使高壓真空表“5”內指針指向5。
⑬ 發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向零點位置。
⑭ 旋轉零點調節鈕“10”,讓高壓真空表“5”內指針指向0位置。
⑮ 發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向測量位置。
⑯ 旋轉標準調節鈕“3”,讓高壓真空表“5”內指針指向10。
⑰ 旋轉“倍加器”開關鈕“8”至指向10-12,當高壓真空表“5”內指針逆時針左移超過1時,再把“倍加器”開關旋鈕“8”旋轉至指向10-3。
⑱ 當高壓真空表“5”內指針逆時針移動超過6.7Pa時,開工件旋轉鈕開關,鐘罩內被鍍件PVDF膜轉動。
⑲ 開蒸發鈕開關。把電流分插塞插入蒸發電極分配孔內(設有1、 2、 3、 4孔,可插入任意一孔)。
⑳ 右手旋轉右側調壓器手輪,慢慢旋轉升壓。
a. 從視鏡視窗觀察鎢螺旋加熱子的加熱溫度顏色變化情況。
b. 當鎢螺旋加熱子顏色變成黃橙色,鋁絲開始熔化時,左手操作擋板鈕,移開鎢螺旋上方擋板。
c. 鋁絲全部熔化蒸發,擋板回原位。
d. 右手旋轉調壓器手輪迴零位。第一次蒸鍍工作完成。
21. 如果再想蒸鍍一次(為了增加電極金屬層厚度):把電流分插塞撥出插入另一個電極分配孔。重複⑳操作動作。
22. 關閉規管燈絲開關。關閉高壓閥(逆時針轉手柄)。關閉工件旋轉。關閉蒸發。旋轉機械泵鈕至指向擴散泵位置。
23. 低壓閥拉出。鐘罩充氣。充氣一段時間,當沒有氣.聲時,升鐘罩。
24. 鎢螺旋加熱子內加鋁絲。PVDF薄膜調換另一面向下 (原下面已鍍一層鋁膜面向上)。緊固在轉動圓盤上。
25. 落鐘罩。開機械泵。
a. 左下旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
b. 當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時,低壓閥推入。
c. 左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
d. 當低壓真空表“2”內指針順時針移動到6.7Pa時,開高壓閥。旋鈕“1”旋轉至指向2區段測量位置。
e. 當低壓真空表“2”內指針順時針移動到指向0.1Pa時,開規管燈絲。
f. 由⑰開始重複操作至⑳ 。
26. PVDF薄膜蒸鍍完鋁層後,按順序關閉規管燈絲、高壓閥、機械泵、擴散泵。把低壓閥拉出。鐘罩充氣,充氣完畢後升鐘罩。取出工件,做好鐘罩內清理工作。
a. 落下鐘罩。
b. 開機械泵,抽3~5min,停機械泵。
c. 切斷供電總開關。
d. 1h後再關閉冷卻水。操作全部完成。
27. 正常生產中,如遇到突然停電時,要立即切斷高真空測量,關閉規管燈絲,高壓閥、低壓閥拉出。來電後,先讓機械泵啟動工作3~5min後,再轉入正常生產。

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