濺射現象,外文名sputtering phenomenon,是一種物理學現象。
基本介紹
- 中文名:濺射現象
濺射現象,外文名sputtering phenomenon,是一種物理學現象。
濺射現象,外文名sputtering phenomenon,是一種物理學現象。...... 濺射現象sputtering phenomenon用具有一定能量的離子束或中性原子束轟擊固體,會引起固體表面分子、原子...
濺射對於遠程有彈道英雄就像分裂斬對於近戰英雄,它和分裂斬有相似也有不同的地方。最大的不同在於AoE在彈道擊到的目標處決定,而不是分裂斬由攻擊者站立的地方確定...
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下...
濺射方法是一種利用濺射原理及技術處理加工材料表面的現代技術方法。濺射,也稱陰極濺射,其基本原理是:在直流或射頻高壓電場的作用下利用形成的離子流轟擊陰極靶材料...
濺射鍍 sputtering depositsnn 用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材,使靶材表面部分原子逸出的現象r.若把零件放在靶材附近酌適當位置上,則從靶材飛出的原子便會...
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發生電離。...
濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,把靶材的原子被擊出的現象稱為濺射。濺射產生的原子沉積在基體表面成膜稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在...
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。設定一個與靶面電場正交的磁場,濺射時產生的快電子在正交的...
使用膜厚監控1.打開總電源,打開氬氣開關(兩成保持在0.035Mpa左右,濺射時也要注意氬氣的流量)。 2.按主機背面的開關按鈕,進入開機界面,根據提示進行下面一系列的...
噴濺又稱沸噴。是原油或重質油品貯罐(池)著火後,一種噴射性燃燒的現象。噴濺是由於貯罐(池)底部有水墊層存在,著火後在熱波作用下, 使水墊層被加熱到汽化溫度(...
乾腐蝕是指在沒有水(包括但不限於液體水,水溶液或水蒸氣)接觸的情況下,引起的腐蝕或者氧化現象,即指等離子腐蝕,主要包括電漿腐蝕、離子銑蝕、濺射腐蝕、反應...
經過反覆試驗,碳絲雖然蒸發如故,但他卻從這次失敗的試驗中發現了一個稀奇現象,...離子發射及帶電粒子的濺射作用,在靶前面出現正負電荷的空間分離,從而產生空間電信...
微溝槽效應(microtrenching effect)是深刻蝕過程中邊角的刻蝕深度大於中心部分刻蝕深度的一種現象。...
噴焰電漿可引起電波相位超前或滯後現象。噴焰的電子密度和碰撞頻率隨時間和...由於脫落節的殼體對前級噴焰的濺射,可能出現極大衰減或降低天線擊穿功率,甚至...
光電效應是物理學中一個重要而神奇的現象。在高於某特定頻率的電磁波照射下,某些物質內部的電子會被光子激發出來而形成電流,即光生電。光電現象由德國物理學家赫茲...
3 真空濺射鍍膜3.1 濺射鍍膜原理3.1.1 濺射現象3.1.2 濺射機理3.2 濺射沉積成膜3.2.1 濺射源3.2.2 濺射原子的能量與角分布3.2.3 濺射產額與濺射速率...