濺射材料是2013年公布的機械工程名詞。
基本介紹
- 中文名：濺射材料
- 外文名：sputtering material
- 所屬學科：機械工程
- 公布年度： 2013年
定義,出處,
定義
在真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。
出處
《機械工程名詞》。
濺射材料
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刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。濺射刻蝕時，應儘可能從濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發性氣體，通過真空系統從濺射室中排出。澱積薄膜時，濺射源置於靶極，受氬離子轟擊後發生濺射。如果靶材是單質的，則在襯底上...
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- 濺鍍
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②射頻濺射 射頻濺射是利用射頻放電電漿進行濺射的一類方法。由於射頻濺射所使用的靶材包括導體、半導體和絕緣材料等，因此套用範圍有所增加。其缺點是沉積速率低、荷能離子對薄膜表面有損傷，因而限制了該工藝的廣泛套用。③磁控濺射 磁控濺射是上世紀七十年代後期發展起來的一種先進工藝，是在真空下電離惰性氣體形成...
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濺射原理 以pld為例，因素主要有： 靶材與基片的晶格匹配程度 鍍膜氛圍（低壓氣體氛圍） 基片溫度 雷射器功率 脈衝頻率 濺射時間 對於不同的濺射材料和基片，最佳參數需要實驗確定，是各不相同的，鍍膜設備的好壞主要在於能否精確控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。濺射靶材 溫州市...
- ITO(其他常用縮寫)
ITO 是通過真空磁控濺射鍍膜工藝生產的一種材料，屬於導電膜禁止玻璃的導電膜層材料。ITO Glass 透明導電膜禁止玻璃的導電膜層材料主要為ITO（銦錫氧化物半導體）膜、金屬鍍膜等，其特點是在150KHz~1GHz範圍內有適宜的禁止效能，透光性較普通網柵材料禁止玻璃好很多，電阻率介於10- 3～10- 4 Ω·cm 之間,透光率...
