掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術

《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》是化學工業出版社於2020年出版的一本圖書，作者是任小明。

基本介紹

• 中文名：掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術
• 作者：任小明
• 出版社：化學工業出版社
• 出版時間：2020年6月1日
• 頁數：236 頁
• 定價：128 元
• 開本：32 開
• 裝幀：精裝
• ISBN：9787122362346
• 文字語種：漢文

內容簡介

《掃描電鏡/能譜原理及特殊分析技術》詳細闡述了掃描電鏡/X射線能譜儀基本原理和特殊分析技術原理及套用兩部分內容，將掃描電鏡和能譜儀在日常測試中所遇到的普遍問題和部分特殊分析技術需求從原理到測試技巧進行了全面的闡述。 本書可作為高等院校化學、化工、材料、生物類及相應專業的實驗課參考教材，也可供從事相關研究的科技人員參考；既適合初學者入門，也能幫助具備一定經驗者提...

章節目錄

上篇 掃描電鏡-X射線能譜儀基本原理

第1章 概述

1．1 掃描電鏡的產生和發展

1．2 掃描電鏡的種類與特點

1．2．1 掃描隧道顯微鏡（STM）

1．2．2 雙束掃描電鏡（FIB）

1．2．3 環境掃描電鏡（ESEM）

1．2．4 冷凍掃描電鏡（Cryo-SEM）

1．2．5 掃描透電鏡（STEM）

1．3 掃描電鏡的發展趨勢

第2章 掃描電鏡的原理、結構及套用技術

2．1 基礎知識

2．1．1 解析度

2．1．2 放大倍率

2．1．3 像差

2．1．4 電子束斑

2．2 電子束與物質的相互作用

2．2．1 散

2．2．2 主要成像信號

2．3 掃描電鏡的結構與工作原理

2．3．1 電鏡的工作原理

2．3．2 掃描電鏡的結構

2．3．3 圖像襯度和成因

2．4 圖像質量及主要影響因素

2．4．1 高質量圖像特徵點組成

2．4．2 圖像質量影響因素——儀器參數

2．4．3 圖像質量影響因素——作技術

2．5 掃描電鏡樣品製備技術

第3章 X射線能譜儀原理、結構及分析技術

3．1 X射線的產生及套用

3．2 能譜儀結構及工作原理

3．3 能譜測試中的基本概念

3．3．1 幾何位置

3．3．2 軟體參數

3．3．3 儀器性能指標

3．4 能譜儀的分析特點

3．5 能譜儀定性和定量分析

3．5．1 定性分析

3．5．2 定量分析及校正方法

3．5．3 其他定量校正方法

3．6 能譜儀的分析方法

3．7 能譜分析的主要參數選擇

3．7．1 加速電壓的選擇

3．7．2 特徵X射線的選擇

3．7．3 束流

3．8 能譜定量分析誤差及探測限

3．8．1 誤差來源

3．8．2 脈衝計數統計誤差

3．8．3 探測限（CL）

下篇 特殊分析技術原理及套用

第4章 低電壓成像分析技術

4．1 低電壓掃描電鏡技術突破

4．1．1 低電壓成像技術的限制

4．1．2 低電壓成像技術的突破

4．2 低電壓成像技術的套用及原理

4．2．1 非導電材料上的成像套用

4．2．2 熱敏材料上的成像套用

4．2．3 材料極表面區域的成像套用

第5章 高空間解析度能譜分析技術

5．1 技術概述

5．2 低電壓提高能譜空間解析度技術

5．2．1 基本原理

5．2．2 低電壓能譜分析特點

5．2．3 典型案例分析

5．3 薄片法提高能譜空間解析度技術

5．3．1 基本原理

5．3．2 薄片法分析特點

5．3．3 經典套用案例分析

第6章 荷電問題及其解決技術

6．1 荷電現象描述

6．2 荷電效應的產生機理

6．3 荷電效應對圖像質量的影響

6．4 荷電問題的解決技術及套用案例

6．4．1 多餘電荷的及時消除

6．4．2 出入電流的動態平衡

6．4．3 荷電不敏感的成像信號或裝置選擇

第7章 低真空成像分析技術

7．1 低真空模式特點

7．2 低真空模式的硬體配備

7．3 低真空成像技術的套用

7．3．1 非導電樣品的直接觀察

7．3．2 生物樣品的原生態觀察

第8章 高景深及立體成像分析技術

8．1 技術概述

8．2 基本理論

8．3 圖像景深的參數影響及套用案例

8．3．1 工作距離對圖像景深的影響

8．3．2 物鏡光闌對圖像景深的影響

8．4 立體成像技術套用

第9章 顆粒檢測分析技術

9．1 工作原理

9．2 制樣方法

9．3 測試方法和過程

9．4 案例分析

第10章 特殊樣品的能譜分析技術

10．1 輕重元素兼具樣品的能譜分析技術

10．2 粗糙樣品的定量分析技術

10．3 譜峰相近元素樣品的能譜分析技術

10．4 納米填充顆粒能譜分析技術

10．5 低真空條件下的能譜分析誤差

參考文獻