小型雷射直寫儀是一種用於生物學領域的分析儀器,於2013年11月15日啟用。
基本介紹
- 中文名:小型雷射直寫儀
- 產地:德國
- 學科領域:生物學
- 啟用日期:2013年11月15日
- 所屬類別:分析儀器 > 生化分離分析儀器
小型雷射直寫儀是一種用於生物學領域的分析儀器,於2013年11月15日啟用。
小型雷射直寫儀是一種用於生物學領域的分析儀器,於2013年11月15日啟用。技術指標具備375nm的LED直寫頭,刻寫最小尺寸結構是1 μ m ,可以達到50 mm2 /min 的書寫速度。設備可套用於MEMS,BioM...
無掩膜雷射直寫光刻機是一種利用雷射直接在光刻膠上曝光製作所需圖案的設備,其適用於實驗室和科研機構,能夠進行微納尺度的光刻加工。概念 小型台式無掩膜光刻機Microwriter ML3,通過雷射直寫在光刻膠上直接曝光製作所需要的圖案,而無需掩膜版,專為實驗室設計開發,適用於各種實驗室桌面。技術特徵 Focus...
雷射直寫儀 雷射直寫儀是一種用於物理學領域的儀器,於2010年07月01日啟用。技術指標 刻寫最大面積 200 x 200 mm2 ,焦距離達到 0.6 µm ,·最小分辨距離50 nm。主要功能 用於MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs和其他微觀研究領域。。
小型台式雷射直寫系統是一種用於機械工程領域的雷射器,於2018年12月13日啟用。技術指標 目鏡放大倍數:10*、15*;物鏡放大倍數:4*、10*、20*;曝光波長:365nm、436nm;X軸量程範圍:-24mm~+24mm;Y軸量程範圍:-24mm~+24mm;Z軸量程範圍:0~+3mm;支持導入圖形格式:JPEG、DWG、DXF;線寬精度:1um。主要...
三維飛秒雷射直寫儀是一種用於力學領域的雷射器,於2017年4月28日啟用。技術指標 1.真正三維亞微米結構製作能力, 加工工藝為雙光子聚合;2.具有寬廣的可加工光敏材料選擇的自由度,包含: SU-8, Ormocere, PDMS, PEG-DA, AZ 系列, IP-L系列等;3.二維平面可加工範圍最小達 100 x 100 mm2;4.三維移動工件...
雷射直寫光刻系統是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2015年4月17日啟用。技術指標 雷射波長405納米,最高解析度0.6微米,最大樣品尺寸:8英寸。主要功能 與通過物理掩模板進行光照的傳統工藝不同,雷射直寫是通過電腦控制一系列雷射脈衝的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 15個藍光...
飛秒雷射治療儀主要包括輔助制瓣LASIK手術和切割前囊膜與晶體核這兩類,在飛秒雷射輔助的白內障相關設備上,主要包括如美國的LenSX,LensAR及OptiMedica、Technolas等設備。1997 年美國密西根大學的 Kellogg 眼科中心和超快光學研究中心 研製成功可用於醫學的飛秒雷射機 IntraLase。同年 的6 月 30 日,IntraLase飛秒雷射機...
雷射加工是最先進的加工技術,它主要利用高效雷射對材料進行雕刻和切割,主要的設備包括電腦和雷射切割(雕刻)機,使用雷射切割和雕刻的過程非常簡單,就如同使用電腦和印表機在紙張上列印,在利用多種圖形處理軟體(CAD、CircuitCAM、CorelDraw等)進行圖形設計之後,將圖形傳輸到雷射切割(雕刻)機,雷射切割(雕刻)機就...
小型雷射直寫儀是一種用於生物學領域的分析儀器,於2013年11月15日啟用。 中文名 小型雷射直寫儀 產地 德國 學科領域 生物學 啟用日期 2013年11月15日 所屬類別 分析儀器 > 生化分離分析儀器 技術指標 播報 編輯 具備375nm的LED直寫頭,刻寫最小尺寸結構是1 μ m ,可以達到50 mm2 /min 的書寫速度。設備可...
雷射直寫技術利用強度可變的雷射束對塗在基片表面的光刻膠進行變劑量曝光,顯影后在光刻膠表面形成所需要的浮雕輪廓。雷射直寫的最大優點是器件定位後可一次寫出多個相位階數或連續相位的二元光學器件,從而避免了多次掩模套刻喪失的共軸精度。雷射直寫製作微透鏡陣列的工藝過程可以分為三步:使用CAD設計出微透鏡陣列的...
■ 3000倍光學顯微鏡(配CCD圖象系統)1台(日本產)■ 多功能高分子材料物化特性測試儀(國產)■ 10mx5m隔振工作檯和光學工作站 ■ 硬度測量儀(英國產)■ 高性能源表和IV/CV測量系統(器件電子性能、材料介電特性表征)■ 界面接觸角和表面張力分析儀 ■ 比表面和空隙率分析儀 ■ 飛秒雷射直寫加工系統(德國產)
微光學元件是套用現代微加工技術,例如光學蝕刻技術、雷射束直寫和電子束直寫以及反應離子束蝕刻技術製造出的一類光學零件,一般地,這種元件的外形尺寸是微米數量級。微光學元件包括衍射和折射兩種,例如微透鏡、微反射鏡、微扇出光柵、最佳相位元件和偏振器等,已經成為實現(而利用傳統的光學元件不可能實現或者是不現實...
3、發展了簡化模式方法,利用簡化模式方法可以看清深刻蝕光柵內部的物理過程,由此設計並發明了一系列深刻蝕石英光柵器件,開展了基於深刻蝕石英光柵的小型化飛秒雷射脈衝壓縮器等工作。為簡化模式方法和深刻蝕石英光柵新學科的建立搭建了完整框架做出貢獻。學術論文 據2024年10月暨南大學光子技術研究院網站數據,周常河已...
MEM和微光學技術的共同特徵是它們都基於VLSI技術,兩者的結合就能產生一個新的、更寬廣的微光電機械系統,它已經在雷射掃描、光學開關、動態微透鏡 和集成光電-機電裝置等方面顯示出誘人的前景和產品市場,並將進一步開拓到微分光儀、微干涉儀和小型線上機械檢測系統等領域。在微機械、微電子支撐下的微 光學系統也更易...
基於全光纖飛秒雷射器的微納光子器件三維雷射直寫系統,國家自然科學基金“重大”項目,參加。獲獎與榮譽 2017年度北京市教學成果二等獎,強化科學素質和能力,構建“大物理”系列教學平台,張興華/鄭凱/梁生/朱亞彬/王波波/劉斌/彭繼迎/陳征/蔡天芳/王智 2018年北京交通大學教師教學貢獻一等獎 2017年北京交通大學教師教學...
也有人嘗試採用雷射與 STM 聯用進行電解微/納米材料加工的新方法 。考慮到採用 STM 進行微細電解加工對設備和加工條件要求苛刻 ,有人提出相對簡單的基於掃描離子電導顯微術的電解微細加工方法 : 採用內部充滿電解液的微滴管作為微探針 ,微滴管的尖連線埠徑從 0 . 1 μ m 到數十微米不等 ,在微滴管內設定一金屬...
通過陽極氧化鋁(AAO)模板和雷射直寫儀實現納米刷子中的納米線陣列的形狀、直徑、長度的調控;通過控制電沉積和磁控濺射過程,能夠實現微/納米線的成分、織構的調控。研究不同的實驗參數對微/納米刷子結構的巨磁阻抗效應的影響和性能提高,探索後續處理工藝對刷子結構靜態磁性、動態磁性以及磁疇結構的影響。該項目的立項...