套準精度

光刻要求矽片表面上存在的圖案與掩模版上的圖形準確對準，這種特性指標就是套準精度。

基本介紹

• 中文名：套準精度
• 外文名：Overlay Accuracy

對準十分關鍵，因為掩模版上的圖形要層對層準確地轉移到矽片上。當圖形形成要多次用到掩模版時，套準精度過差都會影響矽片表面上不同圖案間總的布局寬容度。在光刻對電路圖形進行曝光時，應儘量提升套準精度，使套刻誤差在容限範圍內，進而提高光刻工藝質量。