多功能離子束處理系統是一種用於材料科學、冶金工程技術、化學工程領域的分析儀器,於2013年2月10日啟用。
基本介紹
- 中文名:多功能離子束處理系統
- 產地:德國
- 學科領域:材料科學、冶金工程技術、化學工程
- 啟用日期:2013年2月10日
- 所屬類別:分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器
多功能離子束處理系統是一種用於材料科學、冶金工程技術、化學工程領域的分析儀器,於2013年2月10日啟用。
多功能離子束處理系統是一種用於材料科學、冶金工程技術、化學工程領域的分析儀器,於2013年2月10日啟用。技術指標集減薄和刻蝕於一體的離子束製備系統,離子能量範圍寬,可選擇高能和低能離子減薄,離子束寬度可調,可選擇聚焦和...
離子束能量1keV 10keV,2把離子槍可分別±45°傾斜,樣品台傾斜角度-120°至210°,離子束加工角度0°至90°; 3、全電腦控制,觸控螢幕操作界面,內置視頻觀察系統,可實時觀察樣品出來過程。主要功能 對TEM試樣進行離子減薄處理。
主要功能 設備主要功能:1.離子束清洗:對待處理工件或樣品進行表面清洗。2.離子束濺射沉積:用低能濺射氣體離子源實現濺射沉積薄膜。3.金屬、氣體離子注入,混合注入、單注入、反衝注入。4.離子束輔助/增強沉積:用中高能氣體/金屬離子束...
多功能離子束聯合濺射系統 多功能離子束聯合濺射系統是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器,於2016年2月18日啟用。技術指標 加熱溫度:350℃ 單一坩堝 蒸鍍金屬和氧化物。主要功能 該儀器設備主要套用於薄膜生長。
主要功能 特點: 利用離子束濺射系統可製備多元合金薄膜,在鍍膜均勻前提下,通過薄膜厚度的控制,實現成分連續線性分布,成分範圍0-100%可控,解析度可達到0.1%。系統針對3元合金體系進行最佳化,實現高效的三元合金體系薄膜製備,並進行可控的...
電子束電壓範圍:350 V—30 kV;離子束電壓範圍:500 V—30 kV 電子束解析度 @束交點:0.9 nm @ 15 kV,1.6 nm@ 5 kV,2.5 nm @ 1 kV 離子束解析度 @束交點:5.0 nm @30 kV。主要功能 聚焦離子束加工與沉積 晶體...
多功能離子注入與沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年10月20日啟用。技術指標 1真空室:全不鏽鋼結構: 2.真空抽氣系統 3.高能氣體離子源(一套)4.高能金屬離子源(一套)5.低能濺射離子源(一套)6.離子束濺...
mevva多功能離子注入系統是一種用於物理學領域的核儀器,於2012年11月22日啟用。技術指標 加速電壓20-80KV,平均離子流強度0-10mA,脈衝寬度1.2ms。主要功能 對各種可導電的固體材料元素離子注入到材料表面改性。
系統極限真空:≤1×10-4Pa;濺射離子源:離子能量:1000-4000eV;離子束流:60mA;襯底基片台:離子束濺射室上安裝有樣品加熱、水冷轉盤。可分別放置四塊樣品,樣品尺寸最大為Ф30mm。配有樣品擋板。主要功能 單室結構的高真空多功能...