| 中文名稱 | 反應離子鍍 |
| 英文名稱 | reactive ion plating |
| 定 義 | 引入化學反應的離子鍍。 |
| 套用學科 | 機械工程（一級學科），表面工程（二級學科），氣相沉積（三級學科） |
| 中文名稱 | 反應離子鍍 |
| 英文名稱 | reactive ion plating |
| 定 義 | 引入化學反應的離子鍍。 |
| 套用學科 | 機械工程（一級學科），表面工程（二級學科），氣相沉積（三級學科） |
定義 引入化學反應的離子鍍。 套用學科 機械工程(一級學科),表面工程(二級學科),氣相沉積(三級學科) 以上內容由全國科學技術名詞審定委員會審定公布V百科往期回顧 ...
離子鍍在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離,並在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射...
活性反應離子鍍原理和設備結構簡單。圖一為活性反應離子鍍膜機結構示意圖。活性反應離子鍍工藝過程,工件經清洗入爐後抽真空。當真空度達到6x10-3Pa後,開啟烘烤加熱...
中文名稱 活性反應離子鍍 英文名稱 activated reactive evaporation;ARE 定義 利用電子束蒸發並通過活化極活化的反應離子鍍。 套用學科 機械工程(一級學科),表面...
離子鍍是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基底上。它兼具蒸發鍍的沉積...
離子鍍法鍍膜法是將真空鍍膜的蒸發工藝與濺射法的濺射工藝相結合的一種新工藝,即蒸發後的氣體在輝光放電中,在碰撞和電子撞擊的反應中形成離子,在電場中被加速,...
反應蒸鍍法就是將活性氣體導入真空室,使活性氣體的原子、分子和蒸發的金屬原子、低價化合物分子在基體表面沉積過程中發生反應,形成化合物或高價化合物薄膜。反應蒸...
多弧離子鍍是採用電弧放電的方法,在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬,蒸發物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質的離子,從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。...
《多弧離子鍍技術與套用》是2007年冶金工業出版社出版的圖書,作者是張鈞,趙彥輝。...... 第4～7章分別介紹了多弧離子鍍在超硬反應膜、離溫防護塗層、表面裝飾膜...
離子鍍是藉助於惰性氣體輝光放電,使鍍料(如金屬鈦)氣化蒸發離子化,離子經電場加速,以較高能量轟擊工件表面,此時如通入CO2,N2等反應氣體,便可在工件表面獲得TiC,...
PVD基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。[1] 中文名 物理氣相沉積 ...
3.7活性反應離子鍍3.8空心陰極離子鍍3.9熱絲弧槍離子鍍3.10電弧離子鍍3.11磁控濺射鍍3.12離子束及其在氣相沉積方面的套用參考文獻...
物理氣相沉積技術是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。製備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法...
6 8 2活性反應離子鍍裝置6 8 3空心陰極放電離子鍍膜裝置6 8 4射頻放電離子鍍裝置6 8 5磁控濺射離子鍍膜裝置6 8 6真空陰極電弧離子鍍膜裝置...
隨著離子鍍膜技術的發展,諸如離子輔助澱積(IAD),反應離子鍍(RIP)和離子束濺射(IBS)等,薄膜的聚集密度得到了顯著的提高,甚至已經有實驗報導,有些薄膜的聚集密度大於...