反應例子刻蝕系統

反應例子刻蝕系統是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2014年4月21日啟用。

基本介紹

• 中文名：反應例子刻蝕系統
• 產地：日本
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2014年4月21日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

高選擇比各向異性刻蝕；具有全自動以及全手動操作模式可供調整；具有碰觸屏使數值輸入以及工藝配方的儲存更容易；最大可處理直徑8英寸晶片；緊湊型設計可節省無塵室空間。

主要功能

刻蝕鈍化材料如氮化矽、二氧化矽和氧氮化矽；微型機械的生產；失效分析。