《半導體製造技術》是2015年電子工業出版社出版的圖書。本書詳細追述了半導體發展的歷史並吸收了各種新技術資料,學術界和工業界對本書的評價都很高。
基本介紹
- 中文名:半導體製造技術
- 作者:夸克、瑟達
- 譯者:韓鄭生
- 出版社:電子工業出版社
- ISBN:9787121260834
《半導體製造技術》是2015年電子工業出版社出版的圖書。本書詳細追述了半導體發展的歷史並吸收了各種新技術資料,學術界和工業界對本書的評價都很高。
半導體是指在常溫下導電性能介於導體與絕緣體之間的材料。半導體是指一種導電性可控,範圍從絕緣體到導體之間的材料。從科學技術和經濟發展的角度 來看,半導體影響著人們的日常工作生活,直到20世紀30年代這一材料才被學術界所認可。發現...
《半導體製造技術》是2015年電子工業出版社出版的圖書。本書詳細追述了半導體發展的歷史並吸收了各種新技術資料,學術界和工業界對本書的評價都很高。內容簡介 本書詳細追述了半導體發展的歷史並吸收了各種新技術資料,學術界和工業界對...
光學曝光技術 曝光是晶片製造中最關鍵的製造工藝,由於光學曝光技術的不斷創新,它一再突破人們預期的光學曝光極限,使之成為當前曝光的主流技術。1997年美國GCA公司推出了第一台分步重複投影曝光機,被視為曝光技術的一大里程碑,1991年...
到了20世紀中後期半導體製造技術進步,使得積體電路成為可能。相對於手工組裝電路使用個別的分立電子組件,積體電路可以把很大數量的微電晶體集成到一個小晶片,是一個巨大的進步。積體電路的規模生產能力,可靠性,電路設計的模組化方法確保...
《半導體製造技術導論(第2版)》是一本半導體工藝技術的優秀教材,並不強調很深的理論和數學知識,而是重點關注半導體關鍵加工技術概念的理解。全書共分15章,包括:半導體技術導論,積體電路工藝導論,半導體基礎知識,晶圓製造,外延和襯底...
《半導體製造工藝》是2015年8月7日機械工業出版社出版的圖書,作者是張淵。主要介紹了半導體器件基本結構 、半導體器件工藝的發展歷史、半導體材料基本性質及半導體製造中使用的化學品,以典型的CMOS管的製造實例為基礎的積體電路的製造過程及...
半導體多重圖形製造法(Semiconductor multi-pattern manufacturing method)是指一種在半導體製造過程中的技術。在光刻過程中使用了多重圖形曝光增強了製作圖形的密度。儘管極紫外光刻將在下一代光刻中作為一個選項,但是這個仍然需要額外一次...
2023年3月,美國明尼蘇達雙城大學研究人員和國家標準與技術研究院(NIST)的聯合團隊開發 了一種製造自旋電子器件的突破性工藝 ,通過使用鐵鈀材料替代鈷鐵硼,可將材料縮小到5納米的尺寸,該工藝有可能成為半導體晶片新的行業標 準。
《半導體微系統製造技術》是機械工業出版社2017年出版的圖書,作者劉斌。內容簡介 本書根據微電子機械系統的發展趨勢,主要介紹了常用的微系統製作工藝,並加入了部分超大規模積體電路工藝。 本書在微電子製造技術的基礎上主要包括了MEMS及微...
此外,SOI材料還被用來製造MEMS光開關,如利用體微機械加工技術。SOI是矽電晶體結構在絕緣體之上的意思,原理就是在Silicon(矽)電晶體之間,加入絕緣體物質,可使兩者之間的寄生電容比原來的少上一倍。優點是可以較易提升時脈,並減少...
《半導體器件的製造方法》涉及積體電路製造工藝技術領域,特別涉及一種半導體器件的製造方法。權利要求 1.一種半導體器件的製造方法,包括:步驟一:提供一襯底,所述襯底包括高壓器件區域和低壓器件區域,所述高壓器件區域和低壓器件區域由淺...
《半導體微納製造技術及器件》是2020年科學出版社出版的圖書,作者是雲峰,李強,王曉亮。內容簡介 本書基於課題組的研究成果和研究方向,對目前主流採用的半導體微納製造技術進行歸納,結合已得到驗證的理論進行部分機理的論述,結合半導體微納...
《電力半導體新器件及其製造技術》是2015年機械工業出版社出版的圖書,作者是王彩琳。內容簡介 本書介紹了電力半導體器件的結構、原理、特性、設計、製造工藝、可靠性與失效機理、套用共性技術及數值模擬方法。內容涉及功率二極體、晶閘管及其...
《半導體工藝與積體電路製造技術》是2023年科學出版社出版的圖書。內容簡介 《半導體工藝與積體電路製造技術》將系統地介紹微電子製造科學原理與工程技術,覆蓋積體電路製造所涉及的晶圓材料、擴散、氧化、離子注入、光刻、刻蝕、薄膜澱積、測試...
第2章半導體製造工藝概況 2.1引言 2.2器件的隔離 2.2.1PN結隔離 2.2.2絕緣體隔離 2.3雙極型積體電路製造工藝 2.4CMOS器件製造工藝 2.4.120世紀80年代的CMOS 工藝技術 2.4.220世紀90年代的CMOS 工藝技術 2.4.321世紀初...
廣義上的MEMS製造工藝,方式十分豐富,幾乎涉及了各種現代加工技術。起源於半導體和微電子工藝,以光刻、外延、薄膜澱積、氧化、擴散、注入、濺射、蒸鍍、刻蝕、劃片和封裝等為基本工藝步驟來製造複雜三維形體的微加工技術。光刻 光刻是將...
半導體生產流程由晶圓製造、晶圓測試、晶片封裝和封裝後測試組成。塑封之後,還要進行一系列操作,如後固化(Post Mold Cure)、切筋和成型(Trim&Form)、電鍍(Plating)以及列印等工藝。典型的封裝工藝流程為:劃片 裝片 鍵合 塑封 去飛...
半導體外延亦稱矽及鍺矽外延,是一個電子工藝名詞,作用對象為半導體。矽及鍺矽外延工藝在現代積體電路製造中套用十分廣泛,概括起來主要包括:1.矽襯體外延:矽片製造中為了提高矽片的品質通常在矽片上外延一層純淨度更高的本徵矽,或者在高...
科學家認為,這是由LAST半導體的結構決定的:某些納米結構能阻止高溫流通過材料。在理論上LAST半導體可以利用計算機中晶片散發的熱量或是化工廠作為副產品排放的熱量 技術原理 美國密西根州立大學的科學家研製成一種特殊材料,它能以前所未有...
半導體晶片(也稱為積體電路,Integrated Circuit, IC)生產主要分為 IC 設計、 IC 製造、 IC 封測三大環節。 IC 設計主要根據晶片的設計目的進行邏輯設計和規則制定,並根據設計圖製作掩模以供後續光刻步驟使用。 IC 製造實現晶片電路圖...
西方已開發國家因光晶片的加工技術高速發展,占據大部分光晶片高端產品的市場份額。國內目前為止只能生產傳統的熔融拉錐設備製造的光纖分路器和兩通道的波分復用器。這同我國光電子學研究和通信技術市場巨大需求是很不相符的。光晶片是用半導...
如圖1所示,常見的 200mm CMOS 晶片的晶圓製造過程。化學氣相沉積是在製造微電子器件時被用來沉積出某種薄膜的技術,這種薄膜可能是介電材料或者半導體。物理氣相沉積技術則是使用惰性氣體,撞擊濺鍍靶材,在晶圓表面沉積出所需的材質。製程...
積體電路技術包括晶片製造技術與設計技術,主要體現在加工設備,加工工藝,封裝測試,批量生產及設計創新的能力上。為什麼會產生積體電路?我們知道任何發明創造背後都是有驅動力的,而驅動力往往來源於問題。那么積體電路產生之前的問題是什麼...