化學氣相沉澱法（CVD）是從氣態金屬鹵化物（主要是氯化物）中還原化合沉澱製取難熔化合物粉末和各種塗層（包括碳化物，硼化物，矽化物和氮化物等）的方法
基本介紹
- 中文名：化學氣相沉澱法
- 外文名：chemical vapor deposition method
- 學科：粉末冶金
- 簡稱：CVD
化學氣相沉澱法（CVD）是從氣態金屬鹵化物（主要是氯化物）中還原化合沉澱製取難熔化合物粉末和各種塗層（包括碳化物，硼化物，矽化物和氮化物等）的方法
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有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition) ,是在基板上成長 半導體 薄膜的一種方法。...
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CVD,化學氣相澱積,指高溫下的氣相反應。...... CVD(Chemical Vapor Deposition,化學氣相澱積),指把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣...
化學氣相沉積CVD (Chemical Vapor Deposition)化學氣相澱積是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑引入反應室,在晶圓表面發生化學反應,從而生成所需的固態薄膜並澱積在其表面...
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轟擊鍍料,使蒸發成氣相,然後沉積在基體表面,歷史上,真空蒸鍍是PVD法中使用最早...具體清洗方法有清洗劑清洗、化學溶劑清洗、超音波清洗和離子轟擊清洗等。具體預...
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