光譜探測分析系統

光譜探測分析系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2012年07月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：光譜探測分析系統
• 產地：英國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2012年07月15日
• 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 光譜成像儀

技術指標

一、 三光柵光譜儀 1、 光譜儀焦距：500mm 2、 光譜解析度：0.07nm（@435.8nm，1200l/mm 500nm braze）。 3、 光譜分辨精度：+0.2nm 4、 重複性：+0.05nm 5、 相對孔徑：F/6.5 6、 雜散光抑制比：5X10-4 7、 光柵：2400l/mm 300nm braze;1200l/mm 500nm braze;300l/mm 500nm braze（共三塊） 8、 光譜儀內所有反射鏡的反射效率：90%（200～1000nm） 9、 狹縫寬度：10μ。

主要功能

光譜精確度:0.2nm. 光譜重複性:0.05nm. 光學快門（Gate）:2ns。