可見近紅外光譜儀系統是一種用於物理學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器，於2018年6月8日啟用。
基本介紹
- 中文名：可見近紅外光譜儀系統
- 產地：美國
- 學科領域：物理學、材料科學、能源科學技術
- 啟用日期：2018年6月8日
- 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
1.光譜儀焦長不小於550mm 2.光譜解析度達到0.025nm（用1200g/mm光柵，10um狹縫，435nm處） 3.光柵面積：76mm*76mm 4.採用電動狹縫：以2um為步進，0-2mm可調 5.雜散光抑制比：1*10-5 6.CCD像元：1024*256，像元尺寸：26um*26um，光譜回響範圍：250nm-1050nm 7.暗電流：2 e-/pixel/h（液氮製冷情況下） 8.非線性度：0.4%@20kHz，1%@1MHz 9.PbSe單點探測器，光譜回響範圍1.0-4.5um，TE製冷，NEP值2.0*10-11，鍍金單點探測器適配器 10.配備電動位移台，X行程75mm，Y行程50mm，通過軟體控制步進0.1um。
主要功能
套用於半導體微納結構的電學、光譜學、電光以及光電性質的研究。搭配顯微鏡系統、電動平移台和低溫探針系統等，完成低溫下微納器件的光學，光電和電光性質的測量。
