X射線螢光光測量系統

X射線螢光光測量系統是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2007年4月24日啟用。

基本介紹

• 中文名：X射線螢光光測量系統
• 產地：德國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2007年4月24日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀

技術指標

可程式測量平台， 4個視準器：Ф0.1mm,Ф0.3mm,Ф0.6mm,0.5*0.15mm, 可測量Au,Ni,SnPb,Ag等鍍層厚度。

主要功能

鍍層厚度測量（生產許可證試驗）。