UHV沉積系統

UHV沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2009年9月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：UHV沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2009年9月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

外延室極限真空度：2.8*10^-8Pa；進樣室極限真空度：0.5*10^-5Pa；真空漏率2.0*10^-8Pa.l/S；靶材最大直徑70mm，最多4塊。

主要功能

沉積薄膜。