基本介紹
配製方法,套用,
配製方法
取Triton X-100及PBS(或TBS)混合,置37℃~40℃水浴中2~3h,使其充分溶解混勻。用前取該儲備液稀釋至所需濃度。
套用
在電子工業領域,該產品的作為晶片清潔劑,以便增強和加速某些程式和操作。Triton X-100可以在晶片表面形成一層薄膜,該薄膜可使用標準抗蝕劑剝離膜技術或 SPI Plasma Prep II 等離子蝕刻機的氧蝕刻進行清除。
在生命科學領域,該產品經常被用於水中幫助分解蛋白酶;但是,必須使用儘可能低的濃度否則會污染樣品,污染還會影響MS分析。
基因工程中還用作限制性內切酶的緩衝液(NEBuffer EcoRI)的成分之一 配比:
該產品通常還作為聚合乳液的配方使用。