LPVD技術

雷射物理氣相沉積(LaserPlysial VapourDepostion簡稱LPVD) 的基本原理是在真空室內安放靶材和基體。雷射照射於蒸鍍材料的表面，利用雷射的高能量使蒸鍍材料加熱蒸發，並在基體表面沉積形成膜層。雷射束經過聚集後有極高的能量密度，可以使包括非導電的陶瓷材料在內的幾乎所有的高熔點材料直接蒸發。雷射束照射到靶材表面，使之發生濺射，剝離的物質沉積在基體上形成的純淨薄膜，又稱雷射剝離沉積。

基本介紹

• 中文名：LPVD技術
• 外文名：LaserPlysial VapourDepostion
• 所屬學科：物理學
• 別名：雷射物理氣相沉積

使用的雷射器有連續波型或脈衝型，大部分用的是脈衝型。採用脈衝型雷射器進行雷射物理氣相沉積，稱為脈衝雷射沉積(Pulsed LaserDepositin 簡稱PLD)。此外，還有PulsedLaserAblaion Deposition (PLAD) 脈衝雷射剝離沉積，LaserSptterDeposition (LSD) 雷射濺射沉積和Pulsed Laser Evaporation (PLE)脈衝雷射蒸鍍等。