EMPA

探針分析

EMPA--Electron microprobe analysis

電子顯微探針是指用聚焦很細的電子束照射要檢測的樣品表面，用X射線分光譜儀測量其產生的特徵X射線的波長和強度。由於電子束照射面積很小，因而相應的X射線特徵譜線將反映出該微小區域內的元素種類及其含量。

利用特徵X射線波長來確定元素的叫做波譜儀(WDS），利用特徵X射線能量不同來展譜的就稱為能譜儀(EDS）。

利用電子顯微探針原理和技術來分析樣品的儀器。

儀器構造：主要由電子光學系統（鏡筒），X射線譜儀和信息記錄顯示系統組成。

1.電子光學系統

為了提高X射線的信號強度，電子探針必須採用較掃描電鏡更高的入射電子束流，常用的加速電壓為10-30 KV，束斑直徑約為0.5μm。電子探針在鏡筒部分加裝光學顯微鏡，以選擇和確定分析點。

2.X射線譜儀

電子束轟擊樣品表面將產生特徵X射線，不同的元素有不同的X射線特徵波長和能量。通過鑑別其特徵波長或特徵能量就可以確定所分析的元素。利用特徵波長來確定元素的儀器叫做波長色散譜儀（波譜儀WDS），利用特徵能量的就稱為能量色散譜儀（能譜儀EDS）。

1.點分析：用於測定樣品上某個指定點的化學成分。

2.線分析：用於測定某種元素沿給定直線分布的情況。

將WDS、EDS固定在所要測量的某元素特徵X射線信號（波長或能量）的位置上，把電子束沿著指定的方向做直線掃描，便可得到該元素沿直線特徵X射線強度的變化，從而反映了該元素沿直線的濃度分布情況。

3.面分析：用於測定某種元素的面分布情況。

將WDS、EDS固定在信號位置上，電子束在樣品表面做二維光柵掃描，便可得到該元素的面分布圖像。

EMPA-Eidgenossische Material-prufungsanstalt

EMPA-European Metal Working Plantmakers Association

EMPA-Ex－ecative Master of Public Administration