高精度納米薄膜製備系統

高精度納米薄膜製備系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年10月16日啟用。

基本介紹

• 中文名：高精度納米薄膜製備系統
• 產地：韓國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2013年10月16日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

可以研製玻璃襯底全彩色AMOLED器件、柔性襯底全彩色AMOLED器件、以及白光照明器件； 加工基片的尺寸為方形200mm×200mm，有效成膜面積不小於180mm×180mm；兼容100mm×100mm的基片，有效成膜面積不小於90mm×90mm； 可蒸鍍有機小分子、金屬薄膜等，薄膜均勻性優於5%。

主要功能

用蒸鍍方式製備發光器件的有機和無機納米級薄膜，並可對基片進行加熱、紫外光、等離子前處理，以及進行器件包封等後處理。