基本介紹
- 中文名:電漿光源
- 外文名:Light Emitting Plasma
- 學科:物理、化學
- 定義:離子體焰產生的高溫激發光源
- 特點:無熱量、無閃爍現象等
- 組件:燈泡、RF功率放大器等
電漿光源是一 種利用電漿焰產生的高溫激發光源。常用作發射光譜的激發光源和原子吸收光譜的原子化器。由於其溫度高達幾千甚至數萬度,因而能使許多難原子化、難激發的元素都能被測定,且靈敏度大大提高。 在光譜分析中,常用的...
LPP(laser-produced plasma)光源,全稱為雷射電漿光源,一般特指液體微滴噴射靶雷射電漿光源,是一種具有較高的軟X射線轉換效率且能夠長期連續運行的低碎屑光源。在極紫外光刻及輻射計量等領域有著重要套用價值和廣闊的發展前景。
天然顏色,接近日光源:約75%的光源能量以連續可見光譜析出,金屬-鹵化物燈約50%。而白熱燈則僅為10%。潛在的危險 把電子設備(比如計算機滑鼠)靠近或者放置在等離子燈上面時要特別小心:不只是玻璃殼會發熱,高電壓還會導致設備上積存...
《放電電漿極紫外光刻光源關鍵物理及技術問題研究》是依託哈爾濱工業大學,由王騏擔任項目負責人的重點項目。項目摘要 Z箍縮放電電漿極紫外(EUV)光源,巧妙地將慣性約束核聚變中獲得高溫、高密度電漿的Z箍縮技術移植到小尺寸放電...
另外,利用DBD可製成準分子輻射光源,它們能發射窄帶輻射,其波長覆蓋紅外、紫外和可見光等光譜區,且不產生輻射的自吸收,它是一種高效率、高強度的單色光源。在DBD電極結構中,採用管線式的電極結構還可製成臭氧O3發生器。21世紀的...
《光子晶體表面電漿MEMS紅外輻射源的研究》是依託復旦大學,由紀新明擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 一、本項目研究一種對特定波長有增強作用的選頻窄帶紅外輻射光源。這是一種利用二維光子晶體(PC)結構與表面電漿共振...
日常所見的電漿光源如霓虹燈就是利用激發輻射。在受控核聚變研究中,作為工作氣體的氫或其同位素在電子溫度高於十幾個電子伏時基本上完全電離。最主要輻射源 但是電漿中含有少量原子序數較高的雜質時,雜質的激發輻射是電漿的最...
為一種新型激發光源,性能優異,套用廣泛。組成 主要包括電漿炬管、高頻發生器(產生高頻電流)、感應圈、供氣系統和霧化系統。炬管由三層同心石英玻璃管組成。外管內切向通入的氬氣為電漿工作氣或冷卻氣。中管通入的氬氣為輔助...
Plasmonics具有廣闊的套用前景,例如,套用於製作各種SPPs元器件和迴路,製作納米波導、表面電漿光子晶片、耦合器、調製器和開關,套用於亞波長光學數據存儲、新型光源、突破衍射極限的超分辨成像、SPPs納米光刻蝕術、以及生物光學(作為...
電漿噴焰plasma je:發射光潛分析激發光源,溫度在數千至一萬多度。試樣以溶液噴霧法或粉末吹樣法注人。它是在陽極和環狀陰極I產生數十至百安直流電弧放電,將氨氣或氮氣沿軸向引人,由於熱收縮和電磁收縮效應,弧焰電漿受到...
第4章Gd靶雷射電漿的極紫外輻射光譜特性53 4.1引言53 4.2Gd靶雷射電漿光源光譜輻射影響54 4.2.1Gd靶雷射電漿的極紫外光譜特性54 4.2.2實驗裝置54 4.2.3Gd靶實驗結果與分析56 4.3預電漿條件下Gd靶電漿的...
電感耦合等離子發射光譜儀,是指以電感耦合電漿作為激發光源,根據處於激發態的待測元素原子回到基態時發射的特徵譜線對待測元素進行分析的儀器。待測元素原子的能級結構不同,因此發射譜線的特徵不同,據此可對樣品進行定性分析;而待測...
《表面放電電漿發光條紋研究》是依託北京理工大學,由歐陽吉庭擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 發光條紋現象是放電電漿中的基本現象之一。高氣壓介質表面放電電漿在UV光源、微波傳輸控制、空氣動力流控制等方面有廣泛套用,其...
毛細管放電三束電漿極紫外光刻光源研究裝置是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器,於2014年1月1日啟用。技術指標 毛細管放電三束電漿單束放電電流峰值大約20kA,電流上升沿大約150ns,所加電壓大約30kV。主要功能 用於極紫外光刻...
研究工作表明,氙和銻電漿光源被認為是發射EUV光譜的最佳候選對象。本項目針對這兩種電漿,使用精確原子光譜參數,研究EUV光源電漿的發射與吸收特性。發展精確的使用細緻能級模型的研究方法,特別針對氙、銻建立適合高Z材料的等離子...
1.3電漿的基本知識3 1.4電漿光源簡介4 1.4.1直流電漿光源4 1.4.2微波電漿光源6 1.4.3電感耦合電漿光源8 1.4.4各類測定元素的原子光譜技術性能的比較11 參考文獻12 第2章ICP光源的物理化學特性14 2.1...
微波電漿發射光譜儀是一種用於食品科學技術領域的分析儀器,於2013年11月27日啟用。技術指標 檢測線達到亞ppb級,通過微博導波技術,將微波能量通過特殊的技術耦合到電漿激發腔中,從而形成穩定的微波電漿光源。 激發頻率:2450...
以上兩大類光源均為非相干光源。還有一類相干光源,它通過激發態粒子在受激輻射作用下發光,輸出光波波長從短波紫外直到遠紅外,這種光源稱為雷射光源。近幾年,又出現了一種新的光源——電漿光源。電光源的一般構成 不同類型的電...
全譜直讀型電漿發射光譜儀是一種用於農學領域的分析儀器,於2012年3月14日啟用。技術指標 2.主要技術指標 2.1設備由如下部分組成: ⑴. 電漿光源 ⑵. RF高頻發生器 ⑶. 分光器 ⑷. 測量與控制單元 ⑸. 軟體 2.2等離子...
單通道電感藕合電漿單色儀ainye出ar}nei IL:f'm}nochromatvr由電感藕合等離子光源與掃描單色儀組成的發射光譜分析儀器。是一仲只能進行單個元素分析的裝置;結構簡一單,造價低廉,測定速度慢,消耗氫氣及試樣最大。測定某元素時,將...
本項目所設計的表面電漿增強顯微拉曼光譜儀,是一種既可獲得SPR譜圖,又可以改變激發角度,在同一微區的暗背景下,同步觀測與之相關並且被增強的拉曼信號的顯微光譜儀器。該儀器由可調整激發角度和偏振狀態的光源裝置、樣品台及流動...
ICP光線譜儀是一種用於化學、材料科學、礦山工程技術領域的分析儀器,於1996年12月1日啟用。技術指標 電漿光源採用晶體控制型RF發生器,進樣系統採用蠕動泵、同心霧化器和旋流霧化室;中階梯光柵和CID檢測器實現全譜“指紋”測量;譜...
又稱單道掃描電漿光譜儀。它由電漿光源、分光系統及其掃描驅動裝置、檢測系統(包括電子計算機及其終端)所組成。學科:岩礦分析與鑑定 詞目:順序掃描單色儀 英文:sequential scanning monochromator 通過掃描機構,使經分光後的各...
由圖所示,未來軟X射線投影光刻設備由雷射電漿光源、照明光學系統、微縮投影光學系統、掩模及矽片精密工作檯、減震系統及相應的真空室組成。微縮投影光學系統是由二塊或三塊非球面鏡組成的反射式光學系統。此時,像差最小區域是以光軸...