電子行業超純水設備

電子行業超純水設備是一款半導體、積體電路晶片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模積體電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。

基本介紹

  • 中文名:電子行業超純水設備
  • 工藝流程: 離子交換 兩級反滲透 
概述,工藝簡介,工藝流程,三種工藝比較,設備特點,電路板用設備,主要套用,技術特徵,套用領域,進水指標,

概述

積體電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區分不同水質。

工藝簡介

電子、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在製作過程中,往往需要使用極其純淨的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話,會影響到後續工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業電子管生產中,如其中混入雜質,就會影響電子的發射,進而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和陰極射線管生產中,其螢光屏內壁用噴塗法或沉澱法附著一層螢光物質,如其配製純水中含銅在8ppb以上,就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動並會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

工藝流程

1、採用離子交換方式,其流程如下:自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→陽樹脂床→陰樹脂床→陰陽樹脂混合床→微孔過濾器→用水點
2、採用兩級反滲透方式,其流程如下:自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透主機→PH調節→混合器→二級反滲透主機(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3、採用高效反滲透加EDI方式,其流程如下(最新工藝性價比最高):自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節系統→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

三種工藝比較

製備電子工業超純水的工藝基本上是以上三種,其餘的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列於下面:
第一種採用傳統的離子交換樹脂其優點在於初次投資少,占用的地方少,但缺點就是需要經常進行離子再生,耗費大量酸鹼,而且對環境有一定的破壞。
第二種採用反滲透+離子交換設備,其特點為初次投資比採用離子交換樹脂方式要稍高,但離子再生周期相對要長,耗費的酸鹼比單純採用離子樹脂的方式要少很多。是比較經濟與流行的一種工藝。
第三種採用反滲透作預處理再配上電去離子裝置,這是目前製取超純水最先進,最環保的的工藝,不需要用酸鹼進行再生便可連續製取超純水,對環境沒什麼破壞性。其缺點在於初次投資相對以上兩種方式過於昂貴。

設備特點

電子工業超純水設備通常由多介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、線上水質檢測控制儀表、電氣採用PLC可程式控制器,真正做到了無人值守,同時在工藝選材上採用推薦和客戶要求相統一的方法,使該設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。

電路板用設備

主要套用

1. 大規模積體電路元器件的生產用水,一般電阻率均大於18MO-CM。按國家有關用水標準(GB/T11446.1-1997)執行。
2. 電子元件廠,在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據電子元件生產工藝不同,其用水標準中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(一級最高電導率18MO-CM以上,二級電阻率不低於15MO-CM,3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM)。

技術特徵

製取電子級超純水
可連續自動生產,不必停機再生
出水水質優於常規離子交換法
不需酸鹼再生,不污染環境
運行成本低,占地面積小

套用領域

1、半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電錶面拋光處理;
5、光電子產品;
6、其他高科技精微產品。

進水指標

◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水。
◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。
◎電導率:<40μS/cm。
◎PH:6.0~9.0。當總硬度低於0.1ppm時,EDI最佳工作的pH範圍為8.0~9.0。
◎溫度: 5~35℃。
◎進水壓力:<4bar(60psi)。
◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。
◎有機物( TOC):<0.5ppm。
◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。
◎變價金屬: Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。
◎H2S:<0.01ppm。
◎二氧化矽:<0.5ppm。
◎色度:<5APHA。
◎二氧化碳的總量:<10ppm
◎ SDI 15min:<1.0。

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