大型純水設備

大型純水設備是主要用於對水資源進行淨化的設備，一般多用於工業上。

概述

電子、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在製作過程中，往往需要使用極其純淨的超純水如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到後續工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其螢光屏內壁用噴塗法或沉澱法附著一層螢光物質，如其配製純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動並會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

設備套用領域

醫藥行業用水：醫用大輸液、腎透析、注射劑、醫藥製劑等

食品工業用水：飲用純淨水、礦泉水、飲料、啤酒、乳業等

海水、苦鹹水淡化：海島、艦船、高鹽鹼地區生活用水改善

樓宇、社區優質用水：星級賓館、機場、房產物業純水網路系統等

化工行業工藝用水：化工、冷卻、化肥、化學藥劑製造

電子工業用水：單晶矽半導體、積體電路塊、顯象管制造系統

工業產品製造用水：汽車、家電塗裝、塗料、油漆、精細加工清洗等

電力行業鍋爐給水：熱力、火力發電鍋爐、中低壓鍋爐動力系統

精細化工、精尖學科用水：化妝品、洗滌劑、生物化工、基因工程等

中藥提取：中藥、西藥、澱粉、味素、食乳品、化工等

其它：節水灌溉、汽車清洗、游泳池、污水處理、不鏽鋼非標製品等

適合飲用純淨水、釀酒、食品、飲料用水。

設備工藝流程

方案1 預處理系統→復床系統→混床系統→後處理系統→用水點

方案2 預處理系統→ RO 系統→混床系統→後處理系統→用水點

方案3 預處理系統→ RO系統→EDI系統→後處理系統→用水點

工藝一

原水——原水加壓泵——多介質過濾器——活性碳過濾器——鈉離子過濾器——精密過濾器——高壓-----泵——反滲透主機——臭氧消毒器——純水箱——純淨水增壓泵——紫外線殺菌器——用水系統

工藝二

適合飲用純淨水、釀酒、食品、飲料用水。

原水——原水加壓泵——多介質過濾器——活性碳過濾器——鈉離子過濾器——精密過濾器——高壓------泵——1級反滲透主機——高壓泵——2級反滲透主機——臭氧消毒器——純水箱——純淨水增壓-----泵——紫外線殺菌器——用水系統

總結

在黑白顯像管螢光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個電晶體需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致報廢、次品。在電晶體、積體電路生產中，純水主要用於清洗矽片，另有少量用於藥液配製，矽片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配製電鍍液等。積體電路的產品質量及生產成品率關係很大。水中的鹼金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低，III族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化後的磷(約占灰分的20%~50%)會使P型矽片上的局部區域變化為N型矽而導致器件性能變壞。水中的顆粒(包括細菌)如吸附在矽片表面，就會引起電路短路或特性變差。因此水的質量相當重要。採用反滲透加EDI的脫鹽工藝，可以達到超純水標準。