電子束曝光技術是在計算機控制下,按照加工要求的圖形,利用聚焦後的電子束對基片上的抗蝕劑進行曝光,在抗蝕劑中產生具有不同溶解性能的區域,根據不同區域的溶解...
由於曝光束不同,刻蝕技術可以分為光刻蝕(簡稱光刻)、X射線刻蝕、電子束刻蝕和離子束刻蝕,其中離子束刻蝕具有解析度高和感光速度快的優點,是正在開發中的新型技術。...
電子束加工是利用高能量的會聚電子束的熱效應或電離效應對材料進行的加工。利用電子束的熱效應可以對材料進行表面熱處理、焊接、刻蝕、鑽孔、熔煉,或直接使材料升華...
電子抗蝕劑(Electron resist)是用於電子束曝光的一種抗蝕劑,屬於高分子聚合物,其性能類似於光學曝光中的光致抗蝕劑,即輻照可使其產生化學或物理變化而形成圖形。...
電子束加工方法是利用電子束的能量對材料進行處理、加工的一種現代技術方法。該法自60年代以來,已獲得較快發展,亦已實際套用。它的主要特點是:①由於電子束經聚焦...
目前通過電子束刻蝕技術加工成的NEMS器件的功率可以小到 。基於NEMS技術的信號處理器或計算機系統所消耗的能量只有1uW,這比當前同等計算能力的計算機系統消耗的能量少...
而對於傳統上採用電子束刻蝕需要用時較長的紋路,也可以採用電子干涉刻蝕法快速製成[4-5] 。干涉刻蝕法的劣勢在於它只能夠被用於製備陣列特徵結構。從而,若要繪製...
達到了超高的解析度,有望在未來取代傳統光刻技術,成為微電子、材料領域的重要...一般使用電子束刻蝕等手段,在矽或其他襯底上加工出所需要的結構作為模板。由於...
第二,在工藝上選擇的技術途徑是電子束刻蝕、電子束直接刻蝕,因為這類工藝具有高度靈活性,適合於小批量的生產。光刻蝕技術和X一射線技術適合於大批量的商用積體電路...
5.1.2 電子束刻蝕(EBL)和離子束刻蝕(IBL)5.1.3 納米壓印技術(NIL)5.1.4 其他幾種納米刻蝕技術5.2 自組裝技術5.2.1 微觀粒子間的相互作用能...
11.7電子束刻蝕 11.7.1衍射光學元件的套用 第12章光在非均勻介質中傳播 12.1本章引論 12.2非均勻介質的亥姆霍茲方程 12.3非均勻介質的傍軸波動方程 12.4光...
所謂人工自旋冰,是指通過電子束刻蝕等納米加工技術製備出來的細長納米磁體的集合,這些相互作用的納米磁體只有兩個磁化方向,其行為很像量子力學中的“自旋”,而它們...
聚焦系統用於曝光、電子束刻蝕,典型設備有光刻機、電子束曝光機、雷射劃片機和雷射打孔機、雷射調阻機等。(5)視覺檢測系統。視覺檢測系統主要用於非接觸檢測或者工件...
用普通光刻工藝或電子束刻蝕方法在壓電襯底上製備兩組交指狀的金屬電極,並在兩端施加交流電壓,則由於壓電效應而產生表面聲波。當所產生的表面聲波的波長與交指的...
為了得到更高的解析度, 光刻技術使用的光源波長從紅外發展到深紫外, 加工方法從普通的雷射刻蝕, 發展到 X 射線刻蝕、電子束刻蝕、離子束刻蝕、納米圖形轉印等. 這...
由此產生電子束、X 射線和深紫外(<250nm)刻蝕技術和相應的電子束刻蝕膠,X射線刻蝕膠和深紫外線刻蝕膠,所刻蝕的線條可細至1□m以下。...
第6章高能束微納刻蝕 6.1雷射刻蝕 6.1.1雷射刻蝕的概念與特徵 6.1.2CO2雷射刻蝕 6.1.3準分子雷射刻蝕 6.1.4飛秒雷射刻蝕 6.2電子束和聚焦離...
而Chumak等通過電子束刻蝕、分子束外延生長和沉積過程在Si基上製作了鋸齒狀Py條紋,並調節外加場可以改變禁帶的性質;Chi等則改變了組成材料,研究了釔鐵石榴石(YIG)...
六硼化鈰(CeB6)因其較低的功函式使其成為電子發射率極高的陰極材料,比硼化鑭陰極更耐碳污染同時壽命更長,廣泛套用於電子顯微鏡、微波管、電子束刻蝕、電子束...
微波消解,切片機,熔樣機,磨拋機,切割機,離子減薄儀,壓片機,鑲嵌機,電熱消解儀,電熱板,表面處理儀,離子濺射儀,組織處理儀,電子束刻蝕,缺口制樣機,紅外加熱消解系...
研究方向: (1)有機-無機納米功能材料的設計,製備及自組裝;(2)掃描探針顯微鏡在納米科技中的套用;(3)納米模板的製備(深紫外光刻,聚焦離子束和電子束刻蝕)和...
15 2 2電子束刻蝕技術271 15 2 3分子束外延271 15 3自組裝技術273 參考文獻275參考資料 1. 納米材料的理化特性與套用 .豆瓣讀書[引用日期2019-03-16] ...