離子束濺射沉積薄膜系統

離子束濺射沉積薄膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2011年9月26日啟用。

基本介紹

• 中文名：離子束濺射沉積薄膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2011年9月26日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備

技術指標

1．主離子源離子源發射束徑：≥Φ120mm；離子能量可調範圍：0-1000eV；2．輔助離子源離子束轟擊範圍直徑：＞Φ100mm；離子能量可調範圍：0-1000eV；3．四靶台（水冷、外部隨機換靶）或三靶台靶台一次可裝不同材料靶數：4靶或3靶；靶溫：＜100℃；4．旋轉掃描式襯底台（水冷）,具備台面自轉台面。

主要功能

該系統是一種雙離子源，外加靶台的鍍膜沉積系統。要求保證鍍膜均勻區：100mm，保證鍍膜的緻密性及表面光潔度達到要求。