全自動雙離子束濺射薄膜沉積系統

全自動雙離子束濺射薄膜沉積系統是一種用於物理學領域的儀器，於2018年10月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：全自動雙離子束濺射薄膜沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2018年10月20日

技術指標

真空室極限真空≤6.6×10-6Pa； 濺射沉積薄膜前本底壓強≤5×10-4Pa； 薄膜厚度均勻度：Ф200mm； 直徑範圍RSM值≤±5%、Ф150mm直徑範圍RSM值≤±3%； 樣品台：自轉帶公轉，轉速0~30RPM可調； 靶槍：帶水冷，可旋轉，最多可裝4個靶材並能夠自動切換。

主要功能

本設備為實驗室自研設備，配備有雙射頻離子源、可見至近紅外光控，能夠實現相對自由的靶材濺射沉積功能。