雙離子束沉積系統

雙離子束沉積系統是一種用於物理學、化學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於1994年12月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙離子束沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、化學、材料科學
• 啟用日期：1994年12月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備

技術指標

1．極限真空度：6×10-4Pa2．主源：1000eV，100—120mA輔源：800eV，100mA3．濺射靶：F100mm4．基片台：F40mm，旋轉，掃描，水冷。

主要功能

本儀器之主源用於濺射，輔源用於輔助沉積，主源濺射出的靶材料原子或離子約以5—25eV能量沉積於基底表面，適用濺射金屬、合金、陶瓷等材料，輔源預清洗基底表面以改善吸引力，增加成核點，若在薄膜生長過程中施加低能離子轟擊，可改善薄膜的結構及應力狀態，加氧或氮可進行反應濺射沉積。