雙室蒸發鍍膜系統

雙室蒸發鍍膜系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2012年07月02日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙室蒸發鍍膜系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2012年07月02日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 電加工工藝實驗設備

技術指標

（1）極限真空：5*10-5Pa（2）抽速：從大氣抽至7*10-4Pa，用時小於40min（3）真空保持：系統停泵關機12小時後，真空度≤5Pa（4）基片加熱：溫度可達600度，升溫速率5-20℃/min。

主要功能

雙室熱蒸發鍍膜系統可為基片表面金屬薄膜、無機非金屬薄膜、有機小分子薄膜的真空狀態下生長提供電子槍蒸發與電阻熱蒸發兩種生長模式。可用於製備光電器件的功能薄膜層，如電極、光電器件的視窗層、緩衝層、光敏層等等。