透射電子顯微鏡和樣品製備系統

透射電子顯微鏡和樣品製備系統

透射電子顯微鏡和樣品製備系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年6月11日啟用。

基本介紹

  • 中文名:透射電子顯微鏡和樣品製備系統
  • 產地:捷克
  • 學科領域:材料科學
  • 啟用日期:2018年6月11日
  • 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 透射電鏡
技術指標,主要功能,

技術指標

(1)FEI Tecnai Femto G2 20超快透射電鏡主機,熱電子模式thermionic emission,CTEM點解析度≤0.27nm,CTEM線解析度≤0.14nm,STEM線解析度≤1.0 nm; (2)Clark Impulse光纖飛秒雷射器,2M重頻,雷射平均功率大於等於20W;重複頻率200 kHz-25 MHz; (3)電鏡和雷射系統在線上後指標,4D透射電鏡鏡筒入口處的雷射平均功率:探針脈衝光需大於100 mW; (4)泵浦只獄府旬脈衝光需大於500 mW; (5)4D透射電鏡內置的光路對中聯謎朽機合軸模組可以實現探針脈衝雷射和泵浦脈衝雷射的光路對中,實現光發射圖像和電子衍射; (6)時空解析度,時間解析度:優於100皮秒;基於受晚恥主激後晶格變化的時間常數測量; (7)空間解析度:優於10nm,光電子模精翻殃式下放譽拔測量。

主要功能

該系統中樣品製備部分可以對樣品進行離子減薄;透射電子顯微鏡主要用於對半導體材料進行微觀形貌分析、結構分析,配置店擔汽一體化能譜儀後,可進行樣品成分分析;配備的原位測量系幾才海腳統將能量轉換效率和原子級結構對應起來,可以幫助了解壓電發電機中與能量轉換相關的電化學和光電轉換過程的細節,從而為最佳化結構提供直接和有效的依據。同時,可以原位研究壓電半導體材料在受外界應力作用時的結構、物性間的關係。

相關詞條

熱門詞條

聯絡我們