輝光電漿,空腔內所充的低壓氣體,在外電壓作用下,產生輝光放電所形成的電漿。
基本介紹
- 中文名:輝光電漿
- 外文名:glow plasma
輝光電漿,空腔內所充的低壓氣體,在外電壓作用下,產生輝光放電所形成的電漿。
輝光電漿,空腔內所充的低壓氣體,在外電壓作用下,產生輝光放電所形成的電漿。輝光電漿 glow plasma空腔內所充的低壓氣體,在外電壓作用下,產生輝光放電所形成的電漿。它可用作電漿顯示,是一種新穎的...
輝光放電(glow discharge)是指低壓氣體中顯示輝光的氣體放電現象,即是稀薄氣體中的自持放電(自激導電)現象。由法拉第第一個發現。它包括亞正常輝光和反常輝光兩個過渡階段。輝光放電主要套用於氖穩壓管、氦氖雷射器等器件的製造。物理...
輝光放電電漿物理虛擬仿真綜合實驗是大連理工大學建設的虛擬仿真實驗課程。課程性質 課程背景 該虛擬項目基於我校物理學院自研設備“直流輝光電漿實驗裝置”,涵蓋電漿擊穿電壓測量、輝光放電觀察、探針診斷等由淺及深的系列實驗操作...
工作氣體被擊穿、電離,並產生電漿和自持輝光放電,這就是“湯生放電”的基本過程,又稱為小電流正常輝光放電。 ④磁控靶的陰極接靶電源負極,陽極接靶電源正極,進入正常濺射時,一定是在氣體放電伏-安特性曲線中的“異常...
《大氣壓直流輝光放電電漿不穩定性及控制研究》是依託大連理工大學,由馬騰才擔任醒目負責人的面上項目。項目摘要 大氣壓直流輝光放電與交流的相比能更有效的將放電能量耦合進電漿,尤其是它的放電電流的主要載子是能量較高的電子,...
《大氣壓均勻輝光放電電漿滅菌機制研究》是依託復旦大學,由張善端擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 氣體放電電漿能殺滅一切病原微生物,具有滅菌時間短、室溫工作、無有害殘留物、成本低等優點。本項目研究大氣壓空氣中...
《用輝光放電電漿提高膜電容器儲能密度的研究》是依託華中科技大學,由林福昌擔任項目負責人的青年科學基金項目。中文摘要 提高電容器的儲能密度和功率密度,能顯著減輕電容器重量、縮小體積,在國防和民用領域具有重要的意義。其最有效...
《射頻輝光放電矽烷電漿的診斷技術與機理研究》是依託汕頭大學,由林揆訓擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 射頻輝光放電電漿化學氣相沉積是製備各種功能薄膜的重要工藝技術,廣泛套用於微電子器件,平面采色電視和計算機終端等大...
《常壓輝光放電電漿特性及其對丙綸織物改性的研究》是依託大連理工大學,由顧彪擔任醒目負責人的面上項目。項目摘要 常壓輝光放電是新近發展起來的放電類型,能產生大面積穩定均勻低溫電漿。由於毋需真空系統,為電漿的工業套用...
《大氣壓射頻輝光放電電漿約束射流特性的研究》是依託清華大學,由李和平擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 大氣壓下採用裸露金屬電極結構電漿發生器所產生的射頻輝光放電電漿(RF APGD)射流在電漿材料處理領域有著廣闊的...
國內外均對此電漿的特性進行了大量研究。研究表明.雖然該電漿均勻性較差、厚度較薄.但當放電電壓和頻率適當時.所產生的電漿對微波具有一定的衰減作用。由於人氣輝光電漿可通過覆蓋在目標上的梳狀平行電極來產生,入射徽...
《輝光介質阻擋放電的均勻性、自組織現象及機理研究》是依託北京理工大學,由歐陽吉庭擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 輝光介質阻擋放電(DBD)既是套用廣泛的低溫電漿,也是一個理想的非線性系統,其均勻性問題是基礎理論研究和套用...
是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離後在襯底上進行化學反應沉積的半導體薄膜材料製備和其他材料薄膜的製備方法。電漿增強化學氣相沉積(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)技術是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離後...
新型LDMC離子滲氮設備簡介電漿滲氮(輝光離子氮化)工藝作為一種有效的鋼鐵及合金表面強化技術在工業上已得到廣泛的套用。與其他滲氮相比,離子滲氮具有滲速快、滲層脆性疏鬆理想、零件變形小、有利於不鏽鋼、鑄鐵滲氮、節能、無污染等特點...
《鹼性陰離子交換膜的電漿合成機理研究》是依託中國科學院合肥物質科學研究院,由孟月東擔任項目負責人的面上項目。項目摘要 研製和開發高性能鹼性陰離子交換膜對燃料電池技術的發展具有重要的意義。本申請項目將後輝光電漿技術套用到...
輝光放電電漿屬於低溫電漿,電弧放電電漿屬於高溫電漿。2、光電離法和雷射輻射電離 光電離法借入射光子能量來使某物質的分子電離,以形成電漿,條件是光子能量必須大於或等於該物質的第一電離能。雷射輻射電離本質上也...
連續供電產生輝光放電,其處理工作的溫度由放電的物理參數(氣壓、電壓、電流)來控制,某些情況下希望物理參數取較高值,必然帶來溫度無法控制。為了解決上述矛盾,八十年代後期國際上發展了脈衝直流輝光放電技術,套用效果很好,它是電漿...
輝光放電沉積 輝光放電沉積是2011年公布的材料科學技術名詞。定義 利用電漿分解化合物源,以澱積生長薄膜晶體的技術。出處 《材料科學技術名詞》。
電漿是宇宙重子物質最常見的形態,其中大部分存在於稀薄的星系際空間(特別是星系團內介質)和恆星之中。等離子燈 等離子燈是一種裝飾性的燈,在1980年代最為流行,商品名又名輝光球。等離子燈由物理學家尼古拉·特斯拉發明,他做了...
因此對第一壁轟擊能量和密度都要比輝光電漿高很多倍,從而可以高效快速的清除吸附在第一壁表面的雜質粒子。工作氣體可採用氦和氘。射頻氦電漿對除氫和再循環控制特別有效,而氘射頻電漿對雜質的去除則更加快捷。雜質的清除效率...
即輝光放電管穩定於“亮”穩態;若外加一個強電場與電源產生的內電場反向疊加,使合電場小於氣體的消電離電場,或外加垂直於放電電漿的磁場,使電漿受洛倫茲力偏轉拉長而不能被電源產生的內電場持,輝光放電停止,即輝光放電管...
對於整個宇宙來講,幾乎99.9%以上的物質都是以電漿態存在的,如恆星和行星際空間等都是由電漿組成的。用人工方法,如核聚變、核裂變、輝光放電及各种放電都可產生電漿。分子或原子的內部結構主要由電子和原子核組成。在通常...
電漿並不稀少,也並不神秘。它在宇宙中是一種常見的物質,例如太陽、恆星和閃電中都有電漿,它占了整個宇宙的99%。藉助各種人工方法,例如核聚變、核裂變、輝光放電及其他各种放電形式都可產生電漿。電漿具有不同於普通...
3.3放電參量與電漿作用36 3.3.1放電參量36 3.3.2電漿作用舉例分析——輝光放電電漿作用37 3.4電漿工業發生技術41 3.4.1高頻電漿發生技術41 3.4.2介質阻擋放電(DBD)電漿技術制臭氧42 參考文獻43 4介質...
此外,低氣壓電漿可用於金屬固體表面加工。例如,電漿刻蝕是利用輝光放電在氣體中產生反應性氣體,並與固體表面材料化合成揮發性物質,而在表面刻蝕出圖象。這種方法在半導體元件生產中有重要用途。又如電漿鍍膜(又稱離子鍍膜)是...
進一步開發出考慮He+N2+O2相互作用的仿真模型,從而深入分析大氣壓輝光放電的複雜物理化學過程。結題摘要 由於大氣壓非平衡電漿(APNP)中氧原子(O)的含量通常比臭氧和羥基含量高1-2個數量級,APNP研究領域普遍採用提高O產量的方式...
GDMS 是輝光放電質譜法(glow discharge mass spectrometry)的簡稱。是利用輝光放電源作為離子源與質譜儀器聯接進行質譜測定的一種分析方法。GDMS在多個學科領域均獲得重要套用。在材料科學領域, GDMS成為反應性和非反應性電漿沉積過程的...
空心陰極放電由於具有高密度電漿、高電流密度和低維持電壓等特點,在光源、光探測器、材料處理、光譜分析等領域具有很好的套用前景。因此利用空心陰極放電產生穩定、可控的大面積輝光電漿是近年來電漿研究領域中的一個重要課題。本...
作為指示用的氖管、數字顯示管,以及一些保護用的放電管,也是利用輝光放電。在氣體雷射器中,毛細管放電的正柱區是獲得雷射的基本條件。近代微電子技術中的電漿塗覆、電漿刻蝕,也是利用輝光放電過程。從正柱區的研究發展起來的...