基本介紹
- 中文名：輝光放電處理
輝光放電處理glow dischnrgc:。，:*。，對難粘的聚烯烴類塑膠表面的處理方法。在纂材上或基材下的金屬支承物上施加300一t UOOV的電壓，使101Pa的真空室內的氣體分子激發活化並吸向電極至基材的表面產生物理化學反應，使基材表面活化，增加粘結力。這種處理方法比電暈放電處理節省能量
輝光放電處理glow dischnrgc:。，:*。，對難粘的聚烯烴類塑膠表面的處理方法。在纂材上或基材下的金屬支承物上施加300一t UOOV的電壓，使101Pa的真空室內的氣體分子激發活化並吸向電極至基材的表面產生物理化學反應，使基材表面活化，...
由於是在次大氣壓條件下的輝光放電，處理環境的氣氛濃度高，電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高於低氣壓輝光放電10倍以上。 可處理金屬、非金屬、（碳）纖維、金屬纖維、微粒、粉末等。套用領域 輝光放電的主要套用是...
利用稀薄氣體的輝光放電現象加熱工件表面和電離化學熱處理介質,使之實現在金屬表面滲入欲滲元素的工藝稱為輝光放電離子化學熱處理,簡稱離子化學熱處理。因為在主要工作空間內是電漿,故又稱等離子化學熱處理。
從幾個相似結構的放電管上測出的幾條曲線經技術處理後拼接而成的。弧光放電的電流範圍非常寬,低氣壓弧光放電燈的工作電流在幾十毫安至幾百毫安範圍,高氣壓弧光放電燈的工作電流在幾安培至幾百安培,大電流整流離子管的整流電流可達幾千...
本書是輝光放電質譜分析領域講述基本原理與套用的第一部著作。書中,作者結合自己的研究成果和套用經驗,詳細介紹了輝光放電基本原理、特點、半定量與定量經驗公式與實際分析、樣品處理、深度剖析、套用範圍、套用案例及發展趨勢。全書內容包括...
利用等離子處理時會發出輝光，故稱之為輝光放電處理。電漿清洗的機理，主要是依靠電漿中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，電漿清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附...
輝光離子氮化是指利用輝光放電現象使工件表面滲入氮原子的熱處理方法。 簡介 輝光離子氮化是指利用輝光放電現象使工件表面滲入氮原子的熱處理方法。工作過程 採用專用的輝光離子氮化爐，以工件為陰極，爐體為陽極，當爐內真空度抽至(1~0....
利用等離子處理時會發出輝光，故稱之為輝光放電處理。電漿處理的機理，主要是依靠電漿中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，電漿清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附...
等離子[轟擊]熱處理 等離子[轟擊]熱處理是在低於一個大氣壓的特定氣氛中利用工件(陰極)和陽極之間產生的輝光放電進行熱處理的工藝。套用學科 機械工程（一級學科），機械工程(2)_熱處理（二級學科），整體熱處理（三級學科）
大功率電漿表面處理用脈衝電源,在輝光放電形成的電漿中,離子轟擊陰極(工件)表面將發生一系列的物理、化學現象。離子滲氮、PCVD等都是利用低氣壓輝光放電進行表面處理的工藝技術。大功率電漿表面處理用脈衝電源...
織物等離子處理 plasma treatment of tex-tie用等離體處理織物對織物表面實施改性的技術。在非常高的溫度或輝光放電條件下形成的由部分離子或帶電粒子組成的非常稀薄高溫氣體照射織物，可引起纖維表面燒蝕、極化等，有利於在纖維表面產生反應...
因電漿內富含的大量活性粒子如離子、電子、激發態的原子和分子及自由基等，從而為電漿技術通過化學反應處理異味物質提供了條件。它是基於放電物理、放電化學、反應工程學的學科之上的交叉學科。近幾十年來，有關電漿技術的研究...
(10)後處理，塗面漆。濺射鍍膜 濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。 濺射鍍膜中的入射離子，一般採用輝光放...
本書是以非平衡(低溫)電漿技術為主，介紹了非平衡電漿的基本原理、概念和套用，低溫電漿技術在化學合成反應、聚合反應、電漿鍍膜、表面處理和功能膜製備等中的套用。本書以非平衡電漿為主要內容進行介紹，共分為10章...
用於電漿切割,焊接、表面處理等工業部門之中。可以斷言,航空隱身工程可套用的就是非均衡的冷電漿。產生這種電漿的可能是一種低氣壓氣體放電裝置:當氣壓為13. 3～133Pa時,電子溫度高達10000℃,而電漿溫度只有300℃,不會...