離子轟擊熱處理

中文名稱離子轟擊熱處理
英文名稱plasma heat treatment,ion bombardment,glow discharge heat treatment
定  義在低於1×105Pa(通常是1013~10~1Pa)的特定氣氛中利用材料或工件(陰極)和陽極之間電漿輝光放電進行的熱處理。
套用學科材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),熱處理(四級學科)

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