超薄切片技術是透射電鏡樣品製備方法中最基本的一種。由於電子束穿透能力的限制,透射電鏡觀察的樣品必須很薄。普通光鏡切片厚度通常不低於5um,而透射電鏡所需要超薄切片的厚度則要求小於100nm。超薄切片製備技術包括:取材、固定、脫水、浸透、包埋、切片及染色。
基本介紹
- 中文名:超薄切片技術
- 外文名:ultramicrotomy
- 套用:透射電鏡樣品製備
- 領域:生物顯微技術
超薄切片技術是透射電鏡樣品製備方法中最基本的一種。由於電子束穿透能力的限制,透射電鏡觀察的樣品必須很薄。普通光鏡切片厚度通常不低於5um,而透射電鏡所需要超薄切片的厚度則要求小於100nm。超薄切片製備技術包括:取材、固定、脫水、浸透、包埋、切片及染色。
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